高密度集積回路基板の導体形成に適した銅微粉末の製造法

一种适用于形成高密度集成电路板导体的细铜粉的制造方法

基本信息

  • 批准号:
    05555195
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    1993
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1993 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

硫酸第1銅水溶液は220℃では約30g/lのCu^+が安定に存在するが、冷却すると不均化反応により金属銅と硫酸銅に分解し、銅は数μmの粉末として回収される。2Cu^+(〕 SY.dblharw. 〔) Cu^0+Cu^<2+>一方、ガラスセラミックス多層配線板は、セラミックスグリーンシートに銅ペーストで回路をプリントし、同時焼成してIC等の部品を実装し、スーパーコンピューター等の大規模回路に利用されている。本研究はこの用途に適した銅粉の製造法と導体回路材料として用いたときの特性を検討したものである。1.設備のスケールアップ:銅粉粒径は相対過飽和度の-2/3乗に比例した。この関係を用いて富士通(株)長野工場現場テストに試料供給のため、4lの反応オートクレーブで粒径1μmおよび10μmの銅粉製造条件を確立した。2.同時焼成セラミック多層配線基板への現場テスト:最大のタップ密度を示した1μm30wt%-10μm70wt%の調合銅粉を使用し、スルーホール充填用ペーストとしての性能を市販の銅粉と比較した。540本のビアについて焼成後および超音波加速破壊試験後、市販銅粉に見られた断線は無く、健全なビアが形成された。3.不均化反応法による銅粉の内部構造と焼結特性:銅ペーストとしての優れた特長は銅粉の内部構造に関係することが判明した。すなわち、銅粒子の断面のエッチング-SEM観察、および薄片の電子線回折により、銅粒子は球晶構造を持ち、このため(1)焼結による収縮開始温度が若干高く、(2)焼成時の結晶粒粗大化が抑制されていることが観察された。これらの特性はプリント回路に好適なものであり、調合銅粉が5.38g/cm^3と高いタップ密度を持つことともに、この用途への銅微粉として最高の特性を持つことが明らかになった。
1 copper sulfate solution は 220 ℃ で は about 30 g/l の Cu ^ + が settle に exist す る が, cooling す る と uneven turn against 応 に よ り copper と し, copper copper sulfate に decomposition は several microns の powder と し て back 収 さ れ る. 2Cu^+(] SY.dblharw. [) Cu ^ 0 + Cu ^ 2 + > < side, ガ ラ ス セ ラ ミ ッ ク ス は multilayer wiring board, セ ラ ミ ッ ク ス グ リ ー ン シ ー ト に copper ペ ー ス ト で loop を プ リ ン ト し, at the same time 焼 し て IC の components such as を be し, ス ー パ ー コ ン ピ ュ ー タ ー に の such as large-scale circuit using さ れ て い る. This study は こ の USES に optimum し た の copper powder manufacturing method と conductor loop materials と し て in い た と き の features を beg し 検 た も の で あ る. 1. Equipment: スケ スケ アップ アップ アップ: copper powder particle size スケ to supersaturation <s:1> -2/3乗に ratio た た. を こ の masato department with い て Fujitsu (strains) nagano workshop site テ ス ト に sample supply の た め, 4 l の 応 オ ー ト ク レ ー ブ で size 1 mu m お よ び 10 microns の を copper powder manufacturing conditions established し た. 2. At the same time 焼 into セ ラ ミ ッ ク multilayer wiring substrate へ の field テ ス ト : biggest の タ ッ プ density を shown し た 1-10 mu mu m30wt % % m70wt の を use し mixing copper powder, ス ル ー ホ ー ル filling with ペ ー ス ト と し て の を city vendor performance の copper powder と compare し た. 540 の ビ ア に つ い て 焼 into after お よ び ultrasound accelerator 壊 after the test, the city selling copper powder に see ら れ た bolt は く, sound な ビ ア が form さ れ た. 3. Not all change the 応 laws に よ る copper powder の internal structure と 焼 junction characteristics: copper ペ ー ス ト と し て の optimal れ た specialty は copper powder の internal structure に masato is す る こ と が.at し た. す な わ ち の section, copper particles の エ ッ チ ン グ - SEM 観 examine, お よ び chip の electronic line inflexion に よ り, copper particles は spherulite structure を hold ち, こ の た め (1) 焼 knot に よ る 収 shrink began several high temperature が く, (2) when 焼 into の crystalline grain overgrowth of が inhibit さ れ て い る こ と が 観 examine さ れ た. こ れ ら の features は プ リ ン ト loop に good fitness な も の で あ り, blending copper powder が 5.38 g/cm ^ 3 と high い タ ッ プ density を holding つ こ と と も に, こ の USES へ の copper powder と し て highest の features を hold つ こ と が Ming ら か に な っ た.

项目成果

期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
H.Sasaki,T.Suda,K.Atarashiya and T.Nagai: "Processing Materials For Properties.,eds.,H.Henen and T.Oki:Production and Sintering Behavior of Copper Powder by Disproportionation Reaction.p557-560" TMS(AIME), 1321 (1994)
H.Sasaki、T.Suda、K.Atarashiya 和 T.Nagai:“加工材料的性能。编辑,H.Henen 和 T.Oki:歧化反应铜粉的生产和烧结行为。p557-560”TMS
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