刺激性半導体特殊材料ガス吸入による気管支肺胞洗浄液の変化に関する基礎的研究

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1、半導体材料ガスとして比較的新しく、使用量の増加してきているジボラン(B_2H_6)を用い、吸入曝露実験を昨年、一昨年に引き続き行った。2、Wistar系ラットにジボラン20ppm、4時間吸入曝露を行い、曝露直後、翌日、3日後、14日後に屠殺解剖を施行し、組織、血液に加え気管支肺胞洗浄液(以下BAL)を採取した。BALに関し細胞成分、総淡白、alpha_1-AT、エラスターゼ活性、SOD、過酸化脂質、を測定したところ3日後に炎症を示す指標の変化のピークがある事が判明した。3、上記所見のうち、細胞成分の増加は先行実験の病理所見上マクロファージの遊走及びその周囲への形質細胞、neutrophilなどの細胞浸潤、リンパ組織の過形成が見られたこと、並びに炎症性所見出現のピークが曝露3日後であった事などと解析結果に整合性があった。そのためこれらを踏まえ、1ppm及び10ppmで4時間曝露をラット及びマウスに行い、3日後に生体試料を採取、同様項目の定量解析に加え、マウスのBALからサイトカインを測定し曝露に対する何等かの免疫応答を生ずる事が指摘されるか検討している。4、これらの吸入毒性評価には、頭書ガスの使用される職域での疫学的調査と動物実験結果とが併せて解析評価される事が望ましいが、本研究期間中、関連研究として、曝露作業者の免疫能を中心とした健康診断が実施され曝露期間との間に関連が見られるか重回帰分析した。5、以上につき現在解析中である。