キラルな遷移金属触媒による不斉分子内C-H挿入反応の開発
キラルな遷移金属触媒による不斉分子内C-H挿入反応の開発
批准号:
06772080
负责人:
大竹 廣雄
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1994
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1994 至 --
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
RH_2(OAc)_4を触媒とするα-ジアゾカルボニル化合物の分子内C-H挿入反応は、優れた五員環構築法として天然物の骨格合成に利用されてきている。これまでにも各種の二価ロジウム二量体錯体が合成され、特徴ある選択性を有した触媒反応が開発されてきているが、未だ挿入位置及び不斉選択性の制御に関し問題を残している。本研究では、種々の二価ロジウム二量体錯体、及びその骨格に捕われぬ各種の金属錯体を合成し、より高い不斉選択性を発現させる触媒反応系の開発を目指した。具体的には、2-ジアゾ-3-オキソ-6-フェニルヘキサノレートエステル類を基質として用い、以下の検討を行なった。1.リン酸ビナフチル誘導体を配位子とした二価ロジウム二量体錯体を合成し、その触媒反応性を検討した。2.二価ロジウム二量体錯体以外に、ルテニウム、パラジウムなどの錯体の触媒反応性を調べた。1の検討により、新規な錯体であるロジウム(II)リン酸ビフェナンスリル錯体が、この環化反応において比較的高い不斉収率を与える触媒となることが明かとなった。2の検討に関しては、今のところ充分な収率及び選択性を与える新たな触媒の発見には至っておらず、さらに検討が必要と思われる。今後は、上記の点について検討を続けるとともに、基質に関しても展開していく予定である。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
オルトエステルを経由する新規グリコシル結合形成法の開発と応用
-
批准号:10771256
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$1.09万
-
财政年份:1998
-
负责人:大竹 廣雄
-
依托单位:
ビナフチル骨格を有した新規キラル配位子の合成と、それを利用した不斉触媒反応の開発
-
批准号:08772036
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.58万
-
财政年份:1996
-
负责人:大竹 廣雄
-
依托单位: