Texturierte kubische Bornitrid Filme mit Dicken größer als 1 Mikrometer

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Auf Grund ihrer Härte und chemischen Beständigkeit gegenüber Eisen bieten c-BN Schichten ein ähnlich hohes Anwendungspotential wie Diamantschichten mit dem weiteren Vorteil sowohl einer p- wie auch n-Dotierung. Im Vergleich zu Diamantschichten ist allerdings der Kenntnisstand zur Keimbildungs- und WachstumsPhase erheblich geringer. Ferner ist es bisher bei c-BN Filmen wegen der stets auftretenden kompressiven mechanischen Spannungen nur in ganz wenigen Fällen gelungen, Filmdicken größer als 0.5 µm zu präparieren. Das vorliegende Projekt möchte auf der Basis eigener Vorarbeiten zum ioneninduzierten Streß-Abbau in c-BN Schichten folgende Teilziele erreichen:a) Optimierung eines neu entwickelten Herstellungsverfahrens dicker (größer als 1 µm) c-BN Filmeb) Präparation texturierter c-BN Filme auf einkristallinen metallischen Substratenc) Untersuchungen zum Diffusionsverhalten speziell von Si, Ir und Ar in c-BN Filmen und deren Einfluß auf mechanische Verspannungend) Experimente zur Stabilität der verschiedenen BN-Phasen unter Ionenbestrahlung