Texturierte kubische Bornitrid Filme mit Dicken größer als 1 Mikrometer

在研磨其硬度和化学成分后，c-BN的硬度和化学成分都比金刚石的硬度高，而金刚石的硬度和化学成分也比金刚石高。在钻石的加工过程中，会出现一些特殊的问题，比如，在早期的培养阶段和早期的铸造阶段。在c-BN胶片上，Ferner is bisher wegen der stets auftretenden kompressiven mechanischen Spannungen努尔in ganz wenigen Fällen gelungen，Filmdicken größer als 0.5 µm zu präparieren。Das vorliegende Projekt möchte auf der Basis eigener Vorarbeiten zum ioneninduzierten Street-Abbau in c-BN Schichten folgende Teilziele erreichen：a）优化一个新的中间件（größer als 1 µm）c-BN Filmeb）在一种金属基底上制备c-BN薄膜c-BN薄膜中Si、Ir和Ar的特性及其对离子辐射下BN相稳定性的影响

Auf Grund ihrer Härte und chemischen Beständigkeit gegenüber Eisen bieten c-BN Schichten ein ähnlich hohes Anwendungspotential wie Diamantschichten mit dem weiteren Vorteil sowohl einer p- wie auch n-Dotierung. Im Vergleich zu Diamantschichten ist allerdings der Kenntnisstand zur Keimbildungs- und WachstumsPhase erheblich geringer. Ferner ist es bisher bei c-BN Filmen wegen der stets auftretenden kompressiven mechanischen Spannungen nur in ganz wenigen Fällen gelungen, Filmdicken größer als 0.5 µm zu präparieren. Das vorliegende Projekt möchte auf der Basis eigener Vorarbeiten zum ioneninduzierten Streß-Abbau in c-BN Schichten folgende Teilziele erreichen:a) Optimierung eines neu entwickelten Herstellungsverfahrens dicker (größer als 1 µm) c-BN Filmeb) Präparation texturierter c-BN Filme auf einkristallinen metallischen Substratenc) Untersuchungen zum Diffusionsverhalten speziell von Si, Ir und Ar in c-BN Filmen und deren Einfluß auf mechanische Verspannungend) Experimente zur Stabilität der verschiedenen BN-Phasen unter Ionenbestrahlung