二光子励起レーザー蛍光法を用いたプロラスプセズマ中の水素原子挙動の解明

使用双光子激发激光荧光法阐明 proraspesema 中氢原子的行为

• 批准号: 06780393
• 负责人: 梶原 寿了
• 金额: $ 0.64万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1994
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1994 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06780393/
• 关键词: 水素原子; レーザー蛍光法; 二光子励起; シラン; プロセス; プラズマ; ライマンベータ

波長205nmのレーザー光で水素原子を二光子的に励起し,波長656nmの蛍光を観測して水素原子の密度・速度分布関数を計測する二光子励起レーザー蛍光法を,アモルファスシリコン薄膜作成のためのシランプロセスプラズマ中の水素原子計測へ適用した。ブラズマは,容量結合型RF放電により,直径100mm,電極間隔40mmの平行平板電極間に生成した。純シランガス及び水素希釈シランガスを用い,RFパワー密度0.6-2.5mW/mm^2,ガス圧力15-60mTorr,基板温度50-350℃の範囲で実験を行い,以下の結果を得た。(i)水素原子は電極間にほぼ一様に分布しており,密度は2×10^<18>-2×10^<19>m^<-3>である。(ii)水素原子密度はガス圧力とともに増大した。(iii)圧力一定で水素希釈率を高めると水素原子密度は減少した。(iv)RF電力,基板温度に対する強い依存性は観測されなかった。(v)水素原子温度は,5000±2000Kであった。このような,プロセス条件下での同プラズマ中の水素原子密度・温度計測は,本研究により初めてなされたものである。しかしながら,観測された水素原子密度は,計算機シミュレーションの結果として報告されている値より2桁大きいものであった。また,その密度・温度の決定機構についても,明確な解釈が行えなかった。そのため,計測法の妥当性について再検討した。同法では,レーザーによるガスの解離が問題となるが,SiH_n(n=1,2,3,4)については,問題ないことが確認された。しかし,同プラズマ中に多数存在すると考えられるSi_2H_6分子については,その影響を定量的に評価することができなかった。その点が,今後の課題である。

The wavelength 205nm photons are used to excite the two photons of the water atoms, and the wavelength 656nm photons are used to calculate the density and velocity distribution of the water atoms. The two photons are excited by the photoluminescence method, and the thin film is made into a thin film. Capacitive RF amplifier device, diameter 100mm, cathode gap 40mm parallel plate electrode to generate cathode. The temperature of the substrate is 50-350C and the temperature of the substrate is in the range of 50-350C. The following results show that the RF density is 0.6-2.5mW/ mm ^ 2, the temperature of the substrate is 15-60mTorr, and the substrate temperature is 50-350C. (I) the density of water atoms is 2 × 10 ^ & lt;18>-2 × 10 ^ & lt;19> m ^ & lt;-3> temperature. (ii) the atomic density of water is very high. (iii) the atomic density of water must be higher than that of water. (iv) RF power, substrate temperature dependence is strongly dependent on temperature. (v) the atomic temperature of water is 5000 ±2000K. In this study, the temperature of water atom density is calculated in the same condition. The atomic density of water is measured by the computer, and the computer is used to calculate the atomic density of water. The results show that the report is accurate and reliable. The density and temperature determine the temperature and density of the machine, so that the system can be clearly understood. Please do not know if the method is appropriate. In the same way, please make sure that you can solve the problem of quarantine. If you have a problem, please make sure that you have a problem. If you have a problem, please make sure that you have a problem. If you have a problem, please make sure that you have a problem. In most cases, Si _ 2H_6 molecules are detected in the same way as in the same way. Let's talk a little bit about it, and we'll talk about it in the future.