ナノ電子線加工による表面活性化を利用した超微細接合の原子挙動解析
利用纳米电子束处理表面活化对超细结进行原子行为分析
基本信息
- 批准号:07750796
- 负责人:
- 金额:$ 0.51万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:1995
- 资助国家:日本
- 起止时间:1995 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
最新の電子顕微鏡に用いると電子線によるナノメートルレベルの材料表面の除去加工が可能になることを、まず明らかにした。これはセラミックスや半導体の表面にある酸化物や他の化合物などの汚染層を電子顕微鏡で観察しながらある領域を選択的に加工するものである。除去後には活性な表面が現れており、この活性表面同志を接触させると、常温においても結晶学的に結合した界面が形成されることがわかった。結合時に試料表面を加熱する必要がないため、また焼結助剤やろう材を必要としないため、接合後の残留熱応力による接合界面の破壊は起きないことがわかった。また電子顕微鏡内真空蒸着による金属/セラミックス異相界面の生成過程を蒸着その場で、かつ原子レベルの空間分解能で観察し、その機構を明らかにした。これは薄膜、界面、原子クラスターの形成に深く関わる機構であり、材料学、固体物理学上、極めて重要な知見である。本研究で明らかにされた以上の成果は、現在の接合工学研究では全く触れられていなかったことであり、新たな接合法の開発の糸口になるものである。本研究で得た成果は材料学的に高く評価されており、申請者は本多記念研究奨励賞(1995)、日本金属学会奨励賞(1995)、アメリカ材料学会国際材料組織写真賞(1995)、及び第三位(1995)、日本金属学会組織写真賞(1996)、同佳作賞(1995)、同奨励賞(1995)を受賞した。
Latest の electronic 顕 micromirror に with い る と electronic line に よ る ナ ノ メ ー ト ル レ ベ ル の の remove material surface processing が may に な る こ と を, ま ず Ming ら か に し た. こ れ は セ ラ ミ ッ ク ス や の semiconductor surface に あ る acidification や his の compound な ど の pollution layer を electronic 顕 micromirror で 観 examine し な が ら あ る field を sentaku に processing す る も の で あ る. After removing に は active な surface が れ て お り, こ の contact active surface comrade を さ せ る と, normal temperature に お い て も crystallography に combined し た interface が さ れ る こ と が わ か っ た. When combined に を sample surface heating す る necessary が な い た め, ま た 焼 knot help tonic や ろ を う materials necessary と し な い た め, after the joint の residual heat 応 に よ る joint interface の broken 壊 は up き な い こ と が わ か っ た. ま た electronic 顕 micro mirror vacuum steam with に よ る metal / セ ラ ミ ッ ク ス の interphase interface generation process を steamed そ の で, か つ atomic レ ベ ル の space decomposition can で 観 し, そ の institutions を Ming ら か に し た. こ れ は thin films, interfaces, atomic ク ラ ス タ ー formed の に く masato わ る institutions で あ り, materials science, solid state physics, extremely め て important な knowledge で あ る. This study で Ming ら か に さ れ た の above results は, now の joint engineering research で は complete く touch れ ら れ て い な か っ た こ と で あ り, new た な meet legal の open 発 の si mouth に な る も の で あ る. This research で achieved た results. It received a に high く evaluation in materials science 価されてお <e:1>, and the applicant was awarded the で Bento Memorial Research Award (1995), the Japan Metal Society Award (1995), the アメリカ Materials Society International Materials Organization Photo Award (1995), the び third place (1995), the Japan Metal Society Organization Photo Award (1996), and the same Merit Award (1) 995) The same as the award (1995)を received the award た.
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
木塚徳志 他: "超微細電子線加工の動的原子直視観察" 日本金属学会報. 34. 547 (1995)
Tokushi Kizuka 等:“超精细电子束加工的动态原子直接观察”日本金属研究所通报 34. 547 (1995)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Kizuka et al.: "Nanometer-scale election beam processing and in-situ atomic observation of vacuum-deposited Mgo films in HREM" philosophical magazine. 71. 631-639 (1995)
T.Kizuka 等人:“HREM 中真空沉积 Mgo 薄膜的纳米级电子束处理和原位原子观察”哲学杂志。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Kizuka et al.: "Critical site for structaval fransformatin in vacuum-deposited molybdenum films" Surface Review and Letters. in print (1995)
T.Kizuka 等人:“真空沉积钼薄膜中 structaval frasformatin 的关键位点”Surface Review and Letters。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
木塚徳志 他: "金属クラスターの分裂" 日本金属学会報. 34. 548 (1995)
Tokushi Kizuka 等人:“金属簇的分裂”日本金属研究所通报 34. 548 (1995)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Kizuka et al.: "Structure and hardness of nanocrystalline silver" Journal of Materials Science. (in print). (1996)
T.Kizuka 等人:“纳米晶银的结构和硬度”材料科学杂志。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
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