Hybrid Plasma sulf-nitriding of ion-nitriding and sputtering
离子渗氮与溅射混合等离子硫渗氮
基本信息
- 批准号:08650865
- 负责人:
- 金额:$ 1.41万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:1996
- 资助国家:日本
- 起止时间:1996 至 1998
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Target is usually sputtered in highly reduced atmosphere under 0.02 Torr, but sputtering phenomena can arise in about 10 Torr and steel sputters in the atmosphere of 1-10 Torr with ion bombarding in ion-nitriding. So, firstly, steel was plasma sulf-nitrided at 823K for 3.6-18 k s in nitrogen and hydrogen atmospheres of 1-10 Torr. Molybdenum sulfide was used as a negative electrode and target. The steel was sulf-nitrided. Compound layer of 4 mum with nitrogen diffusion layer of 400 mum were formed by sputtering of molybdenum sulfide. Secondly, steel plate was sulf-nitrided by putting pararelly with molybdenum sulfide plate and arising hollow cathode discharge between the two plates. Compound layer of 8-15 mum and 400 mum nitrogen diffusion layer were formed. In both case, compound layers were made with iron sulfide and iron nitride layers.
靶通常在0.02Torr以下的高度还原气氛中溅射,但离子氮化中离子轰击可在约10Torr的气氛中发生溅射现象,在1-10Torr的气氛中发生钢溅射。因此,首先,钢在1-10Torr的氮气和氢气气氛中,在823K对S进行3.6K-18K的等离子体硫氮共渗。以硫化钼为负极和靶材。钢进行了硫氮化处理。用硫化钼溅射形成了4微米厚的复合层和400微米厚的氮气扩散层。其次,将钢板与硫化钼片平行放置,在两片片之间产生空心阴极放电,对钢板进行硫化氮化处理。形成了8~15微米的复合层和400微米的氮扩散层。在这两种情况下,化合物层由硫化铁和氮化铁层制成。
项目成果
期刊论文数量(7)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
浦尾: "ホローカソード放電を利用したCr-Mo綱のプラズマ浸硫窒化" 表面技術. 49・7. 781-787 (1998)
Urao:“使用空心阴极放电的 Cr-Mo 钢的等离子硫氮共渗”表面技术 49・787 (1998)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
浜: "イオン窒化とスパッタリングを組み合わせたプラズマ浸硫窒化" 表面技術. 49・6. 518-523 (1996)
Hama:“结合离子氮化和溅射的等离子体磺氮化”表面技术49・6(1996)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
浦尾亮一: "イオン窒化法による工具鋼SKD11の表面硬化層について" 表面技術協会第95回講演大会. 95回. (1997)
Ryoichi Urao:“关于离子渗氮生产的工具钢SKD11的表面硬化层”第95届表面技术协会会议(1997年)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
浦尾亮一: "イオン窒化とスパッタリングを組み合わせたプラズマ浸硫窒化" 表面技術. 47・6. 50-55 (1996)
浦尾良一:“结合离子氮化和溅射的等离子体磺氮化”表面技术 47・6(1996)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
R.Urao: "Plasma-sulfnitriding using hollow cathode discharge" Korean institute of surface engineering. 29・5. 443-448 (1996)
R.Urao:“使用空心阴极放电的等离子体硫氮化”韩国表面工程研究所 29・5(1996)。
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Film formation by thermoelectron activation RF ion plating and it's controle.
热电子活化射频离子镀膜形成及其控制。
- 批准号:
60550502 - 财政年份:1985
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)