脱ろう触媒の設計と反応下での各種炭化水素の細孔内拡散特性
脱蜡催化剂设计及反应过程中各种烃的孔扩散特性
基本信息
- 批准号:08650929
- 负责人:
- 金额:$ 1.41万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:1996
- 资助国家:日本
- 起止时间:1996 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
脱ろうは灯軽油の流動点を改善するために、流動点を高くしている直鎖アルカンおよびモノメチル置換アルカンを選択的に除去するプロセスである。MF1ゼオライトはその形状選択性によりこれらの化合物を選択的に分解する触媒である。MF1ゼオライトの各種アルカンに対する分解活性は、直鎖>モノメチル置換≫ジメチル置換の順になることが知られている。しかし、これらの序列は単独の化合物の分解反応から求めたものであり、実際の脱ろう反応に於いては各種炭化水素が共存している。この様な場合、ゼオライトの細孔内では、拡散の速い分子であっても拡散の遅い分子を追い越して拡散することはできないはずである。したがって、共存炭化水素による拡散阻害を明らかにしなければ、脱ろう反応を解析したり、触媒設計の明確な指針は得られないであろう。n-オクンの分解反応を各種炭化水素共存下でFM1ゼオライト触媒に用いて400℃で行った。もし共存炭化水素の細孔内での拡散がn-オクンの分解速度に比べて速いか、または共存炭化水素が分子径が大きすぎる故に細孔内に入ることができない場合は、n-オクンの分解速度に影響を与えないはずである。一方、共存炭化水素が細孔内に入ることができ、しかもn-オクンの分解速度に比べて拡散が遅い場合には、共存炭化水素の拡散阻害により、n-オクンの分解速度を低下させるはずである。共存炭化水素としてトルエンと1,2,4-トリメチルベンゼンを用いたところ、それぞれの分圧の増加とともにn-オクン分解反応が疎外されることが判明した。さらに、トルエンと1,2,4-トリメチルベンゼンの両方を共存させると、両者の疎外効果が認められ、加成性が成立することが判明した。これらの結果は脱ろう触媒の設計を行う上で重要な知見である。
脱瓦是一个选择性去除线性烷烃和单甲基取代的烷烃的过程,这些烷烃具有更高的倒数以改善角蛋白油的倒数点。 MF1沸石是催化剂,由于其形状的选择性,可有选择地分解这些化合物。众所周知,MF1沸石在各种烷烃上的降解活性是按照线性>单甲基取代的顺序>二甲基取代的。但是,这些序列是由单个化合物的分解反应确定的,而各种碳氢化合物在实际脱水反应中共存。在这种情况下,即使是弥散的分子,也无法迅速扩散并超过沸石孔内的慢速分散分子。因此,如果未阐明由共存的碳氢化合物引起的扩散抑制,则不可能分析脱水反应或为催化剂设计提供明确的指南。在存在各种碳氢化合物的情况下,使用FM1沸石催化剂在400°C下在400°C下进行分解反应。如果共存的烃在孔内的扩散速度快于N-Cun的分解速率,或者共存的烃太大而无法进入孔,则不应影响N-Ocun的分解速率。另一方面,如果共存的碳氢化合物可以进入毛孔,并且扩散速度慢于N-OCUN的分解速率,则应通过抑制共存的烃的扩散来降低N ocun的分解速率。当将甲苯和1,2,4-三甲基苯用作共存的碳氢化合物时,发现N-核分解反应与每个碳酸盐的分解反应疏远了。此外,当甲苯和1,2,4-三甲基苯并存时,观察到两者的疏离效应,并发现了添加特性。这些结果是设计脱氧催化剂的重要见解。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
難波 征太郎其他文献
制御されたナノスペースを創る
创建受控纳米空间
- DOI:
- 发表时间:
2003 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
S.K.Jana;A.Mochizuki;S.Namba;S.K.Jana;S.K.Jana;S.K.Jana;S.K.Jana;T.Kugito;S.K.Jana;難波 征太郎 - 通讯作者:
難波 征太郎
難波 征太郎的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('難波 征太郎', 18)}}的其他基金
制御されたナノスペースを反応場とする固体酸触媒の開発
以受控纳米空间为反应场的固体酸催化剂的研制
- 批准号:
09218254 - 财政年份:1997
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
メソポーラスモレキュラーシ-プ細孔径の精密制御
介孔分子羊孔径精准控制
- 批准号:
08232273 - 财政年份:1996
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
均一なメソ細孔を有するシリカモレキュラーシ-ブの高機能化
高功能性、介孔均匀的二氧化硅分子筛
- 批准号:
07242267 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
高パラ選択性触媒の設計
高对位选择性催化剂的设计
- 批准号:
04650744 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
ハイブリッド触媒を用いた合成ガスとトリメチルベンゼンからのデュレン合成
使用混合催化剂从合成气和三甲苯合成杜烯
- 批准号:
02650577 - 财政年份:1990
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
相似海外基金
複合酸化物ナノ粒子内包ゼオライト触媒の多段階合成プロセスの開発
含复合氧化物纳米颗粒沸石催化剂多步合成工艺的开发
- 批准号:
24K17585 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
ゼオライトの酸点位置制御と触媒特性評価による体系化
通过控制沸石酸性位点位置和评估催化剂性能进行系统化
- 批准号:
24KJ1113 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Catalysis of Juxaposed Active Sites Created in Nanospaces and Their Applications
纳米空间中并置活性位点的催化及其应用
- 批准号:
23K04494 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
固体酸白金族元素が拓くメタン選択酸化触媒科学
固体酸铂族元素开创甲烷选择氧化催化剂科学
- 批准号:
23H01759 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Establishment of site-selective sequential dealumination and defect healing in the micropores of zeolite
沸石微孔中位点选择性顺序脱铝和缺陷修复的建立
- 批准号:
22KJ0675 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows