Investigations related to spatial non uniformly of discharge plasmas
放电等离子体空间不均匀性的相关研究
基本信息
- 批准号:10650274
- 负责人:
- 金额:$ 1.92万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:1998
- 资助国家:日本
- 起止时间:1998 至 1999
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
In 1999, experimental and theoretical investigations were preformed for rf discharges and their results were published in scientific journal as follows,1. The electron energy distribution (EEDF) was measured using a single probe in an inductively coupled Ar/CFィイD24ィエD2 plasma over the pressure range from 3 to 30 mTorr keeping the input power at 50W. The EEDF is a bi-Maxwellian in the pressure lower than 10 mTorr in spite of varying the mixing ratio of Ar to CfィイD24ィエD2, while the EEDF becomes a Druyvesteyn one with increasing CFィイD24ィエD2 at 30 mTorr.2. The EEDF was measured in a capacitivity coupled Ar plasma over the pressure range from 0.03 to 0.1 Torr keeping the rf current constant at 140 mA by varying the gap length. The EEDF s a bi-Maxwellian in the pressure lower than 0.05 Torr, while it becomes a bi-Maxwellian to a maxwellian and a Druyvesteyn in the pressure higher than 0.07 Torr.These gap dependences of EEDF can be explained by the change of heating mechanism from the stochastic to joule heatings in the high energy region, while by the comparison of the elastic collision frequency and the e-e collision one in the low energy.
1999年,对射频放电进行了实验和理论研究,并在科学杂志上发表了如下结果:1。电子能量分布(EEDF)是使用一个单一的探针在电感耦合的Ar/CF_2D_24等离子体中,在3至30 mTorr的压力范围内,保持输入功率为50 W的测量。在低于10 mTorr的压力下,尽管改变Ar与CF_(24)O_(24)D_2的混合比,EEDF是双麦克斯韦的,而在30 mTorr下,随着CF_(24)O_(24)O_(24)D_2的增加,EEDF变成Druyvesteyn的。EEDF测量在电容耦合Ar等离子体的压力范围从0.03到0.1托保持射频电流恒定在140毫安通过改变差距长度。在低于0.05Torr的气压下,EEDF为双Maxwell型,而在高于0.07Torr的气压下,EEDF变为双Maxwell型、Maxwell型和Druyvesteyn型,这些EEDF的带隙依赖性可以用高能区由随机加热到焦耳加热的转变来解释。而在低能量下,通过弹性碰撞频率与e-e碰撞频率的比较,发现了电子碰撞的能量密度随能量密度的变化规律。
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
大村高志、加賀広持、大江一行: "Gap length dependence of electron energy distribution in low pressure Ar capacitively-coupled RF discharges"Jpn. J. Appl. Phys.. 39(in press). (2000)
Takashi Omura、Hiromochi Kaga、Kazuyuki Oe:“低压 Ar 电容耦合射频放电中电子能量分布的间隙长度依赖性”Jpn. J. Phys.. 39(出版中)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
大村高志、大江一行: "Probe measurements and global model of inductively coupled Ar/CF_4 discharges"Plasma Source. Sci. Tech.. 8. 553-560 (1999)
Takashi Omura、Kazuyuki Oe:“感应耦合 Ar/CF_4 放电的探针测量和全局模型”Plasma Source。8. 553-560 (1999)
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Kimura and K.Ohe: "Probe measurements and global model of inductively-coupled Ar/CF_4 discharges"Plasma Sources Sci.Technol.. 8. 553-560 (1999)
T.Kimura 和 K.Ohe:“感应耦合 Ar/CF_4 放电的探针测量和全局模型”Plasma Sources Sci.Technol.. 8. 553-560 (1999)
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Kimura,K.Kaga and K.Ohe: "Gap length dependence of electron energy distribution in low pressure Ar capacitively-coupled RF discharges"Jpn.J.Appl.Pbup.. (印刷中). (2000)
T.Kimura、K.Kaga 和 K.Ohe:“低压 Ar 电容耦合射频放电中电子能量分布的间隙长度依赖性”Jpn.J.Appl.Pbup..(出版中)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Kimura,M.Nakamura and K.Ohe: "Formation of dip structure of electron energy distribution function in diffuced Nitrogen plasmas" J.Phys.Soc.Jpn.67. 3443-3449 (1998)
T.Kimura、M.Nakamura 和 K.Ohe:“扩散氮等离子体中电子能量分布函数的倾角结构的形成”J.Phys.Soc.Jpn.67。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
OHE Kazuyuki其他文献
OHE Kazuyuki的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('OHE Kazuyuki', 18)}}的其他基金
Studies of high concentration O_3 production using on-off narrow gap barrier discharge and its spatial transfer
开关窄间隙势垒放电高浓度O_3生产及其空间传输研究
- 批准号:
12650273 - 财政年份:2000
- 资助金额:
$ 1.92万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
相似海外基金
Study of a solid Ar plasma source generating continuously soft X-ray pulses in water window around 3nm
固体Ar等离子体源在3nm左右水窗内连续产生软X射线脉冲的研究
- 批准号:
26390113 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 1.92万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)














{{item.name}}会员




