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赤外反射吸収分光法による反応条件下の表面反応の研究

赤外反射吸収分光法による反応条件下の表面反応の研究
红外反射吸收光谱研究反应条件下的表面反应
批准号：
98J00219
负责人：
山方 啓
金额：
$0.58万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
1998
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1998 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-98J00219/
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光励起キャリアの動きに立脚した新しい光エネルギー変換材料の開発
  • 批准号：
    24H00485
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额：
    $30.28万
  • 财政年份：
    2024
  • 负责人：
    山方 啓
  • 依托单位：
    Okayama University
固液界面における準束縛溶媒分子の配向緩和ダイナミクス
  • 批准号：
    20050002
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $2.18万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    山方 啓
  • 依托单位：
    Hokkaido University
ピコ秒時間分解表面増強振動分光法を用いた電極表面キャリアーダイナミクス
  • 批准号：
    18041001
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $3.01万
  • 财政年份：
    2006
  • 负责人：
    山方 啓
  • 依托单位：
    Hokkaido University
赤外表面増強場を用いた振動誘起表面反応の制御
  • 批准号：
    17750117
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额：
    $2.24万
  • 财政年份：
    2005
  • 负责人：
    山方 啓
  • 依托单位：
    Hokkaido University