半導体素子上に培養した神経細胞の回路形成に関する研究

半导体器件培养神经元电路形成的研究

• 批准号: 11132229
• 负责人: 八木 透
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1999 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-11132229/
• 关键词: 神経細胞培養; バイオ素子; 軸索誘導

神経回路を人工的に作る方法として、1)軸索伸長に関係する各種タンパク分子の濃度勾配を人工的に作る、2)生体組織に親和性の高い物質で基盤上にパターンを作る、3)電界をつくる、4)軸索が伸長しやすいような溝(ガイドウェイ)を培養ディッシュ底につくる、などが考えられる。これらのうち今回は3)に着目して、電界と軸索伸長について調べる。まず、電極周辺にどのような電界が形成されるかについてコンピュータシミュレーションを行った。シミュレーションでは、正極と負極に1.5Vの電圧を加え、ポアソン方程式と有限要素法を用いて電界を計算している。なお電極周囲はリンガー液で満たされているものとした。図1は、電極周辺に形成される電界分布を色の濃淡で示したグラフで、左から正負電極間距離が100、200、300μmの場合を示している。同図の上段は電極を断面方向から眺めた場合の電界分布、下段は上方から眺めた場合の電界分布のうち長軸方向の半分の分布を表示している。容易に推測されるように、電極近傍で高い電界強度が観測されている。また正負極間の距離を変更すると電界分布が大きく変化することがわかる。また基盤内部に電界が形成されていることがわかるが、これはクロストークの原因になる可能性があり、さらには電極と神経組織との信号伝達効率を低下させる可能性があると考えられる。次に、市販の多点電極ディッシュ(ガラス基盤上にフォトリソグラフィでITOを用いてパターン化し、ポリイミドでコーティングをしたもので、電極部分が金でめっきされている)の上に、成ラットの後根神経節から採取した神経細胞を培養し、任意の電極を正極と負極に選び、1.5Vの直流電圧を加えて形成した静電界において、神経細胞の軸索伸長を観察した。なお基盤上への神経細胞の接着を良くする目的で接着分子を塗布した(ポリリジン、コンカナバリン、コラーゲンの3種について実施)。負極に向けて神経突起の伸展が観察されるのではないかと予想したが、今回の実験条件ではそのような傾向は見られず、またコントロールとの比較においても特定方向への突起伸展は観察できなかった。今後は、電界条件を変更して突起伸長との関係を検討する。

Methods of artificial operation of the neural circuit: 1) artificial operation of concentration matching of various kinds of molecules in relation to axonal elongation; 2) artificial operation of high affinity substances in living tissues on the substrate; 3) electric field detection; 4) cultivation of axonal elongation channels; and 3) investigation of axonal elongation. 3) The electric field and the shaft elongation are adjusted. The electrode circumference is formed into a circle, and the electrode circumference is formed into a circle. The voltage of 1.5V between the electrodes is increased and the solution equation is calculated by the finite element method. The electrode is in the middle of the liquid phase. 1. The intensity of the distribution of electric field around the electrode is shown in the case where the distance between electrodes is 100, 200 and 300μm. The distribution of electric field in the case of cross section direction of the upper electrode and the distribution of electric field in the case of cross section direction of the lower electrode are expressed in the direction of half axis. It is easy to guess that the high voltage field strength near the electrode is measured. The distance between the negative poles is changed. The possibility of the formation of an electrical field in the substrate and the possibility of the decrease in the signal transmission rate of the electrode and the brain tissue Multi-point electrode system (On the substrate, the ITO is used in the middle of the reaction, the electrode is used in the middle of the reaction, the electrode is used in the middle of the reaction), the upper part of the reaction is used in the middle of the reaction, the electrode is used in the reaction, the reaction, the electrode is used in the reaction, the reaction, the electrode is used in the reaction, the reaction, the electrode is used in the reaction, the electrode is used in The axonal elongation of nerve cells was observed. For the purpose of adhesion of neurons on the substrate, adhesion molecules are coated (three kinds of coating methods: separation, separation and separation). The stretch of the electrode in the direction of the brain is observed in the opposite direction. In the future, the electric field conditions will be changed and the relationship between protrusion elongation will be discussed.

项目成果

Ito,Y.Yagi,T.et.al: "Cultures of neurons on a microelectrode array and controls of their axon growth in hybrid retinal implant"Proc.of 1999 Int.Joint Conf.on Neural Networks. (印刷中). (1999)

Ito，Y.Yagi，T.et.al：“微电极阵列上的神经元培养及其混合视网膜植入物中轴突生长的控制”Proc.of 1999 Int.Joint Conf.on Neural Networks（1999 年出版）。 ）

Tanaka S., Yagi T. et al.: "Electric charge distribution around stimulation electrode in reinal implant"Proc. of IEEE Int. Conf. of Systems, Man and Cybernetics, 1999. Vol.IV. 386-389 (1999)

Tanaka S.、Yagi T. 等人：“视网膜植入物中刺激电极周围的电荷分布”Proc。

Tanaka S., Yagi T. et al.: "The electric derbity distribution around a stimulation electrode array"Proc. of 1999 Int. Joint Conf. on Neural Networks. (印刷中). (1999)

Tanaka S.、Yagi T. 等人：“刺激电极阵列周围的电分布”Proc. 1999 年神经网络联合会议（正在出版）。

Ito,Y.Yagi,T.et.al: "Cultures of neurons on microelectrode array in hybrid retinal implant"Proc.of IEEE Int. Conf. of Systems, Man and Cybernetics. Vol.IV. 414-417 (1999)

Ito，Y.Yagi，T.et.al：“混合视网膜植入物中微电极阵列上神经元的培养”Proc.of IEEE Int。

Ito,Y.Yagi,T.et.al: "A cultures of neurons on a microelectrode array in hybrid retinal implant"Investigative Ophthalmology & Visual Science (IOVS). Vol. 40, No.4. 734 (1999)

Ito，Y.Yagi，T.et.al：“混合视网膜植入物中微电极阵列上的神经元培养物”调查眼科