新しい高精度のモデル内殻ポテンシャルの開発とそれらの応用

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これまで,Li〜Krまでの元素に関しては非相対論的モデル内殻ポテンシャル(MCP)を開発しているが今回はこれらの元素に対して相対論的MCPと基底関数を開発している.このMCPと基底関数を使って,スピン軌道相互作用を扱えるように改良を行った.これらのMCPと基底関数を使い,TiCl, ZrCl分子の低い電子状態を計算し基底状態を求めるために,MCPと基底関数を使いMRSDCI計算とMRCPA計算を行った.TiCl分子では-_状態が基底状態であったが,ZrCl分子では-_状態が基底状態であることがはじめて明かになった.また,ZrCl分子やNaI分子についてはスピン軌道相互作用を考慮したスピン軌道CI計算を行なった.さらに,ランタニド元素を含むGdO分子の基底状態と励起状態のスペクトル定数をMCPを使ってよく記述することを示した.Na, Mg, Al金属原子のSi(111)表面への吸着の問題を調べる目的で,単一のクラスターモデルを使用して,Na, Mg, Al金属原子およびSi原子にはモデル内殻ポテンシャルを用いてCASSCF計算及びMRSDCI計算を行った.その結果,価電子を1,2,3個を持つNa, Mg, Al金属原子の最安定吸着サイトは,それぞれ,on-top(T_1),bridge(B_2)および3-fold(T_4)サイトであった.これは化学的常識とも一致するものである.