Development of silica glass for 157nm photolithography

开发157nm光刻用石英玻璃

基本信息

  • 批准号:
    12355025
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 12.88万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2000
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2000 至 2001
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The purpose of this research project is to develop silica glass for 157 nm photolithography, which is a promising process for ULSI in the next generation. The results are summarized as follows:(1) Remarkable advances have been achieved in the understanding of the absorption edge of silica glass. This knowledge is very useful to develop silica glass with wide transparent VUV region.(2) Effects of F on the transparency in VUV region have been revealed.(3) Inner transmittance at 157 nm could be increased over 93%.(4) The effect of F2 laser irradiation on increasing temperature and hence decreasing transparency can be estimated from a model calculation.(5) A method for measuring accurate VUV absorption edge in silica glass has been established.
本研究项目的目的是开发用于157 nm光刻的二氧化硅玻璃,这是下一代ULSI的一种有前途的工艺。主要结果如下:(1)对石英玻璃吸收边的认识取得了显著进展。这对研制宽真空紫外区透明石英玻璃具有重要意义。(2)揭示了真空紫外区F对透明性的影响。(3)在157 nm处的内透射率可以增加到93%以上。(4)F2激光照射对温度升高和透明度降低的影响可以从模型计算中估计。(5)建立了一种精确测量石英玻璃真空紫外吸收边的方法。

项目成果

期刊论文数量(22)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
K.Saito, N.Ogawa, A.J.Ikushima, Y.Tsurita, K.Yamahara: "Effects of aluminum impurity on the structural relaxation I silica glass"J.Non-Cryst, Solids. 270. 60-65 (2000)
K.Saito、N.Okawa、A.J.Ikushima、Y.Tsurita、K.Yamahara:“铝杂质对结构松弛 I 石英玻璃的影响”J.非晶体,固体。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Saito: "Effects of Al ions on the Structural Relaxation in Silica Glass"J.Non-Cryst.Solids. 270. 60-65 (2000)
K.Saito:“Al 离子对二氧化硅玻璃结构弛豫的影响”J.Non-Cryst.Solids。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Saito, A.J.Ikushima: "Effects of Flourince on Structure, Structural Relaxation and Absorption Edge in Silica Glass"J. Appl. Phys.. 91. 4886-4890 (2001)
K.Saito,A.J.Ikushima:“荧光对二氧化硅玻璃结构、结构松弛和吸收边的影响”J。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Saito, A.J.Ikushima: "Absorption edge in silica glass"Phys.Rev.B. 62. 8584-8587 (2000)
K.Saito、A.J.Ikushima:“石英玻璃的吸收边”Phys.Rev.B。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
M.Yamaguchi, K.Saito, A.J.Ikushima: "Formation and relaxation processes of photo-induced defects in a Ge-doped SiO_2 glass"Phys.Rev.B. (submitted). (2002)
M.Yamaguchi、K.Saito、A.J.Ikushima:“掺Ge SiO_2 玻璃中光致缺陷的形成和弛豫过程”Phys.Rev.B。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
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Development of ultralow-loss glasses by controlling density fluctuations
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  • 批准号:
    09355021
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 12.88万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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    09640408
  • 财政年份:
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  • 资助金额:
    $ 12.88万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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