Development of silica glass for 157nm photolithography
Development of silica glass for 157nm photolithography
开发157nm光刻用石英玻璃
批准号：
12355025
负责人：
IKUSHIMA Akira J.
金额：
$12.88万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2000
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2000 至 2001
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
The purpose of this research project is to develop silica glass for 157 nm photolithography, which is a promising process for ULSI in the next generation. The results are summarized as follows:(1) Remarkable advances have been achieved in the understanding of the absorption edge of silica glass. This knowledge is very useful to develop silica glass with wide transparent VUV region.(2) Effects of F on the transparency in VUV region have been revealed.(3) Inner transmittance at 157 nm could be increased over 93%.(4) The effect of F2 laser irradiation on increasing temperature and hence decreasing transparency can be estimated from a model calculation.(5) A method for measuring accurate VUV absorption edge in silica glass has been established.
期刊论文(22)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
K.Saito, N.Ogawa, A.J.Ikushima, Y.Tsurita, K.Yamahara: "Effects of aluminum impurity on the structural relaxation I silica glass"J.Non-Cryst, Solids. 270. 60-65 (2000)
K.Saito、N.Okawa、A.J.Ikushima、Y.Tsurita、K.Yamahara：“铝杂质对结构松弛 I 石英玻璃的影响”J.非晶体，固体。
K.Saito、N.Okawa、A.J.Ikushima、Y.Tsurita、K.Yamahara：“铝杂质对结构松弛 I 石英玻璃的影响”J.非晶体，固体。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
K.Saito: "Effects of Al ions on the Structural Relaxation in Silica Glass"J.Non-Cryst.Solids. 270. 60-65 (2000)
K.Saito：“Al 离子对二氧化硅玻璃结构弛豫的影响”J.Non-Cryst.Solids。
K.Saito：“Al 离子对二氧化硅玻璃结构弛豫的影响”J.Non-Cryst.Solids。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
K.Saito, A.J.Ikushima: "Absorption edge in silica glass"Phys.Rev.B. 62. 8584-8587 (2000)
K.Saito、A.J.Ikushima：“石英玻璃的吸收边”Phys.Rev.B。
K.Saito、A.J.Ikushima：“石英玻璃的吸收边”Phys.Rev.B。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
M.Yamaguchi, K.Saito, A.J.Ikushima: "Formation and relaxation processes of photo-induced defects in a Ge-doped SiO_2 glass"Phys.Rev.B. (submitted). (2002)
M.Yamaguchi、K.Saito、A.J.Ikushima：“掺Ge SiO_2 玻璃中光致缺陷的形成和弛豫过程”Phys.Rev.B。
M.Yamaguchi、K.Saito、A.J.Ikushima：“掺Ge SiO_2 玻璃中光致缺陷的形成和弛豫过程”Phys.Rev.B。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
K.Saito, A.J.Ikushima: "Effects of Flourince on Structure, Structural Relaxation and Absorption Edge in Silica Glass"J. Appl. Phys.. 91. 4886-4890 (2001)
K.Saito，A.J.Ikushima：“荧光对二氧化硅玻璃结构、结构松弛和吸收边的影响”J。
K.Saito，A.J.Ikushima：“荧光对二氧化硅玻璃结构、结构松弛和吸收边的影响”J。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 21 条
Development of ultralow-loss glasses by controlling density fluctuations
-
批准号：09355021
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
-
资助金额：$18.24万
-
财政年份：1997
-
负责人：IKUSHIMA Akira J.
-
依托单位：
Study on structural relaxation in silica glass
-
批准号：09640408
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额：$2.56万
-
财政年份：1997
-
负责人：IKUSHIMA Akira J.
-
依托单位：