VLSIチップ観測画像からの逆設計によるその場故障診断に関する基礎的研究

超大规模集成电路芯片观测图像逆向设计故障诊断的基础研究

基本信息

  • 批准号:
    12875067
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.09万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 财政年份:
    2000
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2000 至 2001
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

超大規模集積回路システム(VLSI)の故障診断を支援するために必要な種々のCADデータをVLSIチップそのものから獲得する、いわゆる"逆設計"思想により、VLSIチップの"その場"故障診断を行う技法の開発を目的として、基礎的な研究を行った。この結果、以下の成果を得た。光学顕微鏡画像からの回路認識深さ方向に分解能を有する光学顕微鏡を用いて、定間隔のグリッド上に配置・配線された3層金属配線標準セル設計CMOS VLSIの各配線層の画像を獲得し、予め構築した知識ベースから回路機能の認識を行う手法を開発した。回路認識は、以下の手順で行われる。1.最下層の金属配線に焦点を合わせた光学顕微鏡観測画像を、縦方向のグリッド単位に分割。2.知識ベースに登録された標準セルのデータとグリッド単位にマッチング。3.グリッド単位のデータを組み合わせ、標準セルレイアウトに合致する組み合わせを探索。4.各層の上層金属配線に焦点を合わせた光学顕微鏡画像から、セル間接続を認識。FIB加工装置を利用した回路認識率の改善光学顕微鏡のみでは、厚い絶縁膜や上層金属配線の影響により下層金属配線を明瞭に観測することが困難であり、この為、認識率が低下する場合があることが判明した。このような問題に対し、集束イオンビーム(FIB)加工装置を利用して、認識率を改善する手法を開発した。この手法では、(1)光学顕微鏡のみでは認識が困難な領域に対して、FIB加工装置で絶縁保護膜を除去した上で、画像獲得・回路認識を行う、(2)前述の(1)を行っても認識の信頼性が低い場合は、FIB加工装置を用いて上層金属配線の除去を行った上で、画像獲得・回路認識を行う。(約720字)
VLSI fault diagnosis support is necessary for VLSI CAD design, VLSI acquisition, VLSI inverse design, VLSI field fault diagnosis techniques development, VLSI fundamental research. The following results were obtained. Optical Micromirror Image: Circuit Recognition Depth: Direction: Resolution: Optical Micromirror Image: Three-layer Metal Wiring Standard Design: CMOS VLSI Image: Circuit Recognition Depth: Direction: Resolution: Use: Space: Space: Return to know, the following hand order. 1. The lowest metal alignment is divided into two parts: focus, optical microscope and image measurement. 2. The knowledge base is registered in the standard base. 3. The combination of standard equipment and standard equipment 4. The upper metal alignment of each layer is focused on the optical micro-mirror image, which is indirectly recognized. FIB processing equipment to improve the loop recognition rate of optical micromirrors, thick dielectric film, upper metal wiring, lower metal wiring, detection difficulties, problems, low recognition rate. This problem is solved by developing a method for improving the utilization and recognition rate of FIB processing equipment. These techniques include: (1) recognition of difficult areas by optical micromirrors;(2) recognition of images by FIB processing devices;(3) recognition of reliability by FIB processing devices;(4) recognition of images by FIB processing devices;(5) recognition of difficult areas by FIB processing devices;(6) recognition of images by FIB processing devices; and (7) recognition of images by FIB processing devices. (approximately 720 words)

项目成果

期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
K.Miura: "Development of an EB/FIB integrated test system"Proc.12th European Symposium on Reliability of Electron Devices, Failure Phvsics and Analsis. 1489-1494 (2001)
K.Miura:“EB/FIB 集成测试系统的开发”Proc.12th 欧洲电子器件可靠性研讨会、故障物理学和分析。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三浦克介: "EB・FIB統合化テストシステムの開発"LSIテスティングシンポジウム/2000会議録. 76-81 (2000)
Katsusuke Miura:“EB/FIB 集成测试系统的开发”LSI 测试研讨会/2000 年论文集 76-81 (2000)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Miura: "Automatic EB Fault-Tracing System Using Fuzzy-Logic Approach"Proc. 11th European Symposium on Reliability of Electron Devices. Failure Physics and Analysi. 1377-1382 (2000)
K.Miura:“使用模糊逻辑方法的自动 EB 故障跟踪系统”Proc。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三浦克介: "光学顕微鏡およびFIB加工装置を利用した多層構造標準セル設計VLSIの逆設計システム"LSIテステイングシンポジウム/2001. 63-68 (2001)
Katsusuke Miura:“使用光学显微镜和 FIB 处理设备的多层标准单元设计 VLSI 的逆向设计系统”LSI 测试研讨会/2001(2001)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Miura: "Automatic EB Fault-Tracing System Using Fuzzy-Logic Approach"11th European Symposium on Reliability of Electron Devices, Fai1ure Physics and Analysis (ESREF 2000). 1377-1382 (2000)
K.Miura:“使用模糊逻辑方法的自动 EB 故障跟踪系统”第 11 届欧洲电子器件可靠性、故障物理与分析研讨会 (ESRE​​F 2000)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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    $ 1.09万
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    X00095----265113
  • 财政年份:
    1977
  • 资助金额:
    $ 1.09万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

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