強誘電体・高誘電率材料を用いた機能性デバイスの試作とロジック回路への応用
強誘電体・高誘電率材料を用いた機能性デバイスの試作とロジック回路への応用
批准号:
13025220
负责人:
徳光 永輔
金额:
$1.41万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 --
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本研究では、強誘電体を用いて、同一デバイスでNANDとNORの両方の論理機能を実現し、これらを電気的に切り替え可能で、かつ不揮発性のメモリ機能を有する論理機能可変型の新しいロジックゲートを提案した。このロジックゲートを試作するために、まず使用する強誘電体SrBi_2Ta_2O_9(SBT)および高誘電率材料SrTa_2O_6をゾルゲル法により成膜し、電気的特性を評価した。これらの実験結果を基に、NANDとNORを電気的に切り換えるためのロジックゲートを種々のデバイスパラメータを検討して設計した。次に設計したロジックゲートの動作を回路シミュレータSPICEによりシミュレーションし、入出力特性において、設計値通り約2.4Vのしきい値シフトが得られることを明らかにした。これにより、入力を適切に選べば同一デバイスを用いながら、NANDとNORの2つの論理機能が強誘電体の分極により切り換え可能なことを明らかにした。さらに、提案したロジックゲートを試作するためのマスクパターンを設計・作製し、高誘電率材料と強誘電体を集積化するためのプロセス技術を検討した。試作を進めたが、高誘電率材料SrTa_2O_6の成膜時のゲート領域へのダメージによりロジックゲートの完全な動作確認までは至っていない。しかし、強誘電体と高誘電率キャパシタを集積化したゲート部を別に作製したMOSFETのゲートと接続して、強誘電体の分極により論理しきい値がシフトできることを実験的に明らかにした。
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E.Tokumitsu, N.Kawaguchi, S.M.Yoon: "Flexible Logic-Gate Using Ferroelectric Films"2001 Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices(AWAD). (2001)
E.Tokumitsu、N.Kawaguchi、S.M.Yoon:“使用铁电薄膜的灵活逻辑门”2001 年亚太先进半导体器件基础与应用研讨会 (AWAD)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
E.Tokumitsu, N.Kawaguchi, S.M.Yoon: "Switchable NAND/NOR Logic-Gate Using Ferroelectric Control Capacitor"20th Electronic Materials Symposium. (2001)
E.Tokumitsu、N.Kawaguchi、S.M.Yoon:“使用铁电控制电容器的可切换 NAND/NOR 逻辑门”第 20 届电子材料研讨会。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
E.Tokumitsu, T.Isobe, T.Kijima, H.Ishiwara: "Fabrication and Characterization of Metal-Ferroelectric-Metal-Insulator-Semiconductor(MFMIS) Structures Using Ferroelectric (Bi, La)_4Ti_3O_<12> Films"Jpn. J. Appl. Phys. Vol.40 part 1, No.9B. 5576-5579 (2001)
E.Tokumitsu、T.Isobe、T.Kijima、H.Ishiwara:“使用铁电 (Bi, La)_4Ti_3O_<12> 薄膜的金属-铁电-金属-绝缘体-半导体 (MFMIS) 结构的制造和表征”Jpn。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
徳光永輔: "酸化物エレクトロニクス(分担):アドバンスト エレクトロニクスI-22"培風館. 43 (2001)
Eisuke Tokumitsu:“氧化物电子学(共享):先进电子学 I-22”Baifukan 43(2001)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
E.Tokumitsu, K.Okamoto, H.Ishiwara: "Low Voltage Operation of Nonvolatile Metal-Ferroelectric-Metal-Insulator-Semiconductor(MFMIS)-Field-Effect-Transistors(FETs) Using Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Pt/SrTa_2O_6/SiON/Si Structures"Jpn.J.Appl.Phys.. Vol.40 Part 1,No.4B.
E.Tokumitsu、K.Okamoto、H.Ishiwara:“使用 Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Pt/SrTa_2O_6/SiON/ 的非易失性金属铁电金属绝缘体半导体 (MFMIS) 场效应晶体管 (FET) 的低电压运行
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 7 条
強誘電体ゲートを用いた大電流透明薄膜トランジスタの研究
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批准号:17656105
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.73万
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财政年份:2005
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
強誘電体を用いた不揮発性多値・アナログメモリの研究
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批准号:16656092
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2004
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
強誘電体・高誘電率材料・導電性酸化物を用いた新しい集積機能デバイスの研究
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批准号:14040208
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.88万
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财政年份:2002
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
強誘電体を用いた金属・導電体中の電荷制御とスイッチング素子への応用
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批准号:14655117
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.24万
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财政年份:2002
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
人工単結晶強誘電体ドットの形成とマイクロキャパシタへの適用
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批准号:12875060
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2000
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
強誘電体微細構造の形成と不揮発性微小メモリ効果の実現
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批准号:08875065
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1996
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
超高濃度カーボンドープGaAs/InGaAs超格子の研究
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批准号:04750242
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.7万
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财政年份:1992
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
InGaAsの超高濃度カーボンドーピングに関する研究
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批准号:03750214
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.7万
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财政年份:1991
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
超高速トランジスタ用高ドープ・メタリックP形GaAlAsの開発
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批准号:63750280
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1988
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负责人:徳光 永輔
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依托单位:
海外基金