放射光ホログラフィー法によるマイクロ立体構造体の作成プロセスの確立

建立利用同步辐射全息术创建微型三维结构的工艺

• 批准号: 13750056
• 负责人: 銘苅 春隆
• 金额: $ 1.66万
• 依托单位: Himeji Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2001
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2001 至 2002
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-13750056/
• 关键词: ホログラフィー; X線リソグラフィー; LIGAプロセス; 多層膜ミラー; 放射光; X線マスク; UVSOR; ニュースバル

1.ホログラフィックリソグラフィー用X線マスクの再試作前年度までの露光実験では、X線マスクの吸収体であるAuの厚みが薄すぎたため、回折効果により0次-2次までのパターンがレジスト上に確認できたものの、ホログラフィックな像が確認できるまでには至らなかった。そこでAuの厚みを300nmまで厚く蒸着したX線マスクを作製し、干渉効果により「IMS」の文字が表れるX線マスクを用意した。また実際に単色化した放射光により露光実験を行うビームラインはUVSOR-BL4A1であり、このビームラインではMo/Si多層膜ミラーによって55eV-93eVまでの光が分光できる。計算によると90eVで最大輝度を得ることができるため、X線マスクのパターンも90eVの単色光による露光を想定して設計した。2.分子科学研究所UVSOR-BL4A1での露光実験本研究では、UVSOR-BL4A1ビームラインの出力光を光源として、比較的感度の高いZEPポジ型レジスト材を感光させ、X線マスクとしての性能やパターンの精度などを確認する予定であった。ところが本年度前期の露光実験の際に、UVSOR-BL4A1に設置されている多層膜ミラー分光器のミラー角度微調整用インチワームコントローラーが故障し、露光実験の遂行が不可能な状態となった。コントローラーが復旧した本年度後期に再度露光実験を行う予定であったが、次は他のビームラインユーザーの不注意により真空事故が発生し、復旧作業に1ヶ月ほど要した。BL4A1が使用可能になった頃、今度はUVSOR電子蓄積リング内で水漏れ事故が起こり、UVSORの運転が数ヶ月間にわたり停止する事態になった。3.高度産業科学技術研究所ニュースバルBL7Aでの露光実験上記のような理由から、ニュースバル放射光施設アンジュレータービームラインBL7Aを利用した露光実験の再開を検討した。今年度後期に性能評価が終了したビームラインである。今後はニュースバルBL7Aでの実験に特化し、除振機能を付加したマスク-レジスト間距離が調整できるBL7A専用の露光ステージを開発し、本研究を続行して行く。

1. In the previous year, you will try again to make sure that you are exposed to light, that is, the Au is thick and thin, and that the results are broken 0 times-2 times. Please make sure that you are aware of the situation, and that you can make sure that you do not know what to do. The Au is thicker, the 300nm is thicker, the thicker is steamed, the fruit is IMS, the text table is X, the intention is not. The color of the film is different from that of the UVSOR-BL4A1 film, the 55eV-93eV film and the optical spectrometer. In order to calculate the maximum temperature of the 90eV, we can calculate the maximum temperature of the 90eV color light, the color light, the light, the light two。 Institute of Molecular Science UVSOR-BL4A1 exposure in this study, UVSOR-BL4A1 exposure, output light source sensitivity, ZEP sensitivity, X-ray sensitivity, accuracy, sensitivity, accuracy, accuracy, sensitivity, sensitivity, accuracy, accuracy, sensitivity, accuracy, accuracy and accuracy. In the early part of this year, the light exposure system, the UVSOR-BL4A1 setting, the multi-film splitter, the light splitter and the light splitter. In the latter part of this year, we will see the light again in the later period of this year. We will not pay attention to the vacuum accident and the last month of the old job. The use of BL4A1 may cause accidents, such as the occurrence of internal water leakage accidents in the current UVSOR computer storage system, and the use of UVSOR computers in several months. 3. The Institute of High Vocational Science and Technology is responsible for the BL7A exposure. The reason for the radiation equipment is the radiation equipment. The BL7A uses the light exposure to open the device again. The performance performance will be improved later this year. In the future, the BL7A equipment will be customized, and the vibration absorber will be able to pay for the whole BL7A system.