放射光ホログラフィー法によるマイクロ立体構造体の作成プロセスの確立

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1.ホログラフィックリソグラフィー用X線マスクの再試作前年度までの露光実験では、X線マスクの吸収体であるAuの厚みが薄すぎたため、回折効果により0次-2次までのパターンがレジスト上に確認できたものの、ホログラフィックな像が確認できるまでには至らなかった。そこでAuの厚みを300nmまで厚く蒸着したX線マスクを作製し、干渉効果により「IMS」の文字が表れるX線マスクを用意した。また実際に単色化した放射光により露光実験を行うビームラインはUVSOR-BL4A1であり、このビームラインではMo/Si多層膜ミラーによって55eV-93eVまでの光が分光できる。計算によると90eVで最大輝度を得ることができるため、X線マスクのパターンも90eVの単色光による露光を想定して設計した。2.分子科学研究所UVSOR-BL4A1での露光実験本研究では、UVSOR-BL4A1ビームラインの出力光を光源として、比較的感度の高いZEPポジ型レジスト材を感光させ、X線マスクとしての性能やパターンの精度などを確認する予定であった。ところが本年度前期の露光実験の際に、UVSOR-BL4A1に設置されている多層膜ミラー分光器のミラー角度微調整用インチワームコントローラーが故障し、露光実験の遂行が不可能な状態となった。コントローラーが復旧した本年度後期に再度露光実験を行う予定であったが、次は他のビームラインユーザーの不注意により真空事故が発生し、復旧作業に1ヶ月ほど要した。BL4A1が使用可能になった頃、今度はUVSOR電子蓄積リング内で水漏れ事故が起こり、UVSORの運転が数ヶ月間にわたり停止する事態になった。3.高度産業科学技術研究所ニュースバルBL7Aでの露光実験上記のような理由から、ニュースバル放射光施設アンジュレータービームラインBL7Aを利用した露光実験の再開を検討した。今年度後期に性能評価が終了したビームラインである。今後はニュースバルBL7Aでの実験に特化し、除振機能を付加したマスク-レジスト間距離が調整できるBL7A専用の露光ステージを開発し、本研究を続行して行く。