異種結晶構造からなる積層セラミックス薄膜における優先配向現象の解明
異種結晶構造からなる積層セラミックス薄膜における優先配向現象の解明
批准号:
13750624
负责人:
脇谷 尚樹
金额:
$1.34万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 2002
中文摘要
単結晶基板上にセラミックス薄膜がエピタキシャル成長する場合,成膜条件によって優先的な配向性が劇的に変化する現象が見られる。申請者は"1nm以下というナノメートルオーダーの膜厚"によって優先的な配向性が決定される現象を見いだした。申請者はSi(001)基板上にニッケルフェライト(NiFe_2O_4)薄膜をエピタキシャル成長させる研究をしていた。エピタキシャル成長フェライト薄膜は(MgO-Al_2O_3)/CeO_2/YSZ構造の3重バッファー層の導入によって初めて実現したが,フェライトの配向性は(MgO-Al_2O_3)薄膜の膜厚によって劇的に変化した。(MgO-Al_2O_3)膜厚が0nmの場合,(111)配向となる,膜厚が0.5nmの場合(111)と(001)の混合配向となったが,(001)の面内配向性はcube-on-cubeであった。膜厚が1nm以上の場合には(001)配向のみとなるが,面内配向性は45°回転に変化していた。本研究の目的は"ナノメートルオーダーの膜厚によって優先的な配向性が決定される現象"を詳細に検討することを通して,セラミックス薄膜の配向性決定メカニズムの一般化を導くことにある。すなわち,"異種結晶構造からなる積層セラミックス薄膜の配向性決定を支配している結晶化学の構築にある"14年度には優先配向性の変化の制御を行った。フェライト薄膜をSi(001)基板上へのエピタキシャル成長させるためのバッファー層である(MgO-Al_2O_3)/CeO_2/YSZ3重バッファー層は申請者が見いだしたものであるが,(MgO-Al_2O_3)というのは岩塩構造を持つMgOにAl_2O_3が固溶したものである。ここで,Al_2O_3添加量を変化させることにより岩塩構造の格子定数を(固溶の範囲内で)変化させることができる。このことは,フェライトとバッファー層との格子のミスマッチを設計できること,すなわち,フェライト薄膜にかかる応力の制御が可能となることを意味している。さらに,種々の結晶構造のバッファー層の導入した際にフェライトの配向性がどのようになるかのデータを蓄積することにより,"異種結晶構造からなる積層セラミックス薄膜の配向性決定を支配している因子を明らかにした"。
英文摘要
単結晶基板上にセラミックス薄膜がエピタキシャル成長する場合,成膜条件によって優先的な配向性が劇的に変化する現象が見られる。申請者は"1nm以下というナノメートルオーダーの膜厚"によって優先的な配向性が決定される現象を見いだした。申請者はSi(001)基板上にニッケルフェライト(NiFe_2O_4)薄膜をエピタキシャル成長させる研究をしていた。エピタキシャル成長フェライト薄膜は(MgO-Al_2O_3)/CeO_2/YSZ構造の3重バッファー層の導入によって初めて実現したが,フェライトの配向性は(MgO-Al_2O_3)薄膜の膜厚によって劇的に変化した。(MgO-Al_2O_3)膜厚が0nmの場合,(111)配向となる,膜厚が0.5nmの場合(111)と(001)の混合配向となったが,(001)の面内配向性はcube-on-cubeであった。膜厚が1nm以上の場合には(001)配向のみとなるが,面内配向性は45°回転に変化していた。本研究の目的は"ナノメートルオーダーの膜厚によって優先的な配向性が決定される現象"を詳細に検討することを通して,セラミックス薄膜の配向性決定メカニズムの一般化を導くことにある。すなわち,"異種結晶構造からなる積層セラミックス薄膜の配向性決定を支配している結晶化学の構築にある"14年度には優先配向性の変化の制御を行った。フェライト薄膜をSi(001)基板上へのエピタキシャル成長させるためのバッファー層である(MgO-Al_2O_3)/CeO_2/YSZ3重バッファー層は申請者が見いだしたものであるが,(MgO-Al_2O_3)というのは岩塩構造を持つMgOにAl_2O_3が固溶したものである。ここで,Al_2O_3添加量を変化させることにより岩塩構造の格子定数を(固溶の範囲内で)変化させることができる。このことは,フェライトとバッファー層との格子のミスマッチを設計できること,すなわち,フェライト薄膜にかかる応力の制御が可能となることを意味している。さらに,種々の結晶構造のバッファー層の導入した際にフェライトの配向性がどのようになるかのデータを蓄積することにより,"異種結晶構造からなる積層セラミックス薄膜の配向性決定を支配している因子を明らかにした"。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Hirokazu Ishigaki, Tomoaki Yamada, Naoki Wakiya, Kazuo Shinozaki, Nobuyasu Mizutani: "Effect of the Thickness of SiO 2 under Layer on the Initaial Stage of Epitaxial Grwoth Process of Yttria-Stabilized Zirconia(YSZ)Thin Film Deposited on Si(001)Substrate"
Hirokazu Ishigaki、Tomoaki Yamada、Naoki Wakiya、Kazuo Shinozaki、Nobuyasu Mizutani:“层下 SiO 2 厚度对 Si(001) 衬底上沉积的氧化钇稳定氧化锆 (YSZ) 薄膜外延生长过程初始阶段的影响
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
スマートウィンドウを目指したガラス基板上へのc-軸配向スピノーダル分解薄膜の作製
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批准号:23K23038
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2024
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
スマートウィンドウを目指したガラス基板上へのc-軸配向スピノーダル分解薄膜の作製
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批准号:22H01770
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2022
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
ダブルレーザー時間差照射PLD装置の試作による光学級セラミックス薄膜の高速成膜
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批准号:17656212
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2005
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
オーロラPLD法による強誘電体/強磁性体積層薄膜の300℃以下結晶化とメモリ応用
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批准号:16686040
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额:$16.14万
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财政年份:2004
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
強誘電性/強磁性直交積層セラミックス薄膜による新機能創製に関する研究
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批准号:15656155
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.24万
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财政年份:2003
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
強誘電体セラミックス薄膜の強誘電特性に及ぼすストイキオメトリーの影響の解明
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批准号:11750582
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1999
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
結合原子価論と格子エネルギー計算による鉛含有ペロブスカイト誘電体の安定化機構の解明
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批准号:08750780
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
Pb含有複酸化物ペロブスカイト相の安定化機構
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批准号:06750689
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1994
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负责人:脇谷 尚樹
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依托单位:
海外基金