有機金属イオンビーム成長法による炭化ケイ素ナノ結晶の自己組織化成長機構の解明
利用有机金属离子束生长法阐明碳化硅纳米晶的自组织生长机制
基本信息
- 批准号:03J01530
- 负责人:
- 金额:$ 2.11万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2003
- 资助国家:日本
- 起止时间:2003 至 2005
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
有機金属イオンビーム成長法は、有機ケイ素化合物のジメチルシラン(SiH_2(CH_3)_2)のプラズマから生成される有機金属イオンのメチルシリセニウムイオン(SiCH_3^+)を前駆体として炭化ケイ素(SiC)の結晶成長を行う手法である。SiCH_3^+イオンは分子構造中にSi-C結合とSiCの化学量論組成を有しており、シリコン基板上への良質なSiC薄膜のヘテロエピタキシャル成長、従来手法よりも低温でのSiC結晶成長が可能である。また本手法を用いることによりSiCナノ結晶を自己組織化成長させることが出来る。有機金属イオンビームと固体表面の反応過程の解明は、SiCナノ結晶成長を制御する上で重要な課題であるが、現在のところSiCナノ結晶成長機構についての議論は十分には出来ていない。本研究課題の目的は、有機金属イオンビーム成長法によりSiC薄膜を作製し、SiCナノ結晶の自己組織化成長機構についての新たな知見を得ることにある。本年度では、単色的かつエネルギーの揺らぎの小さい有機金属イオンビームを用い、自己組織化成長するSiCナノ結晶の成長過程について議論した。自己組織化成長するSiCナノ結晶は、熱平衡反応により成長するSiC結晶とは異なり、イオンビームの照射による損傷を緩和するように原子密度の小さい面が優先的に配向することが分かった。また、SiCナノ結晶が自己組織化成長する際に電子線を照射することでSiCナノ結晶の成長を制御出来得ることを新たに発見した。
Organic metal compound growth method: Organic metal compound growth method (SiH_2(CH_3)_2); Organic metal compound growth method (SiCH_3^+); Organic metal compound growth method (SiH_2 (CH_3)_2); SiCH_3^+3 is the molecular structure of Si-C bonding and SiC stoichiometry composition. The growth of SiC thin films on SiC substrates is possible at low temperatures. This method is used to organize and grow SiC crystals. The study on the mechanism of SiC crystal growth is an important topic in the study of the reaction process between organic metal and solid surface. The purpose of this study is to obtain new insights into the fabrication of SiC thin films by organometallic growth methods and the self-organizing growth mechanism of SiC crystals. This year, the growth process of SiC crystals is discussed in the context of the organic metal industry and its organic growth. SiC crystal growth due to self-organization, thermal equilibrium, and radiation damage mitigation due to atomic density and preferential alignment. The growth of SiC crystals is controlled by electron beam irradiation during self-organization and growth.
项目成果
期刊论文数量(17)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Self-assembled nano-dots of heteroepitaxial SiC on Si
Si 上异质外延 SiC 自组装纳米点
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Matsumoto;T.Matsumoto
- 通讯作者:T.Matsumoto
Heteroepitaxy of zinc-blende SiC nano-dots on Si substrate by organometallic ion beam
有机金属离子束在硅衬底上异质外延闪锌矿SiC纳米点
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:T.Matsumoto
- 通讯作者:T.Matsumoto
Growth temperature effect on a self-assembled SiC nanostructure
生长温度对自组装SiC纳米结构的影响
- DOI:
- 发表时间:2004
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Matsumoto;et al.
- 通讯作者:et al.
M.Matsukawa, et al.: "Brillouin scattering study on the wave properties in thin SiC films"Ultrasonics. 42. 391-394 (2004)
M.Matsukawa 等人:“SiC 薄膜中波特性的布里渊散射研究”超声波。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Self-assembled nano-tiles of zinc-blende SiC on Si(100) using organometallic ion beam deposition with simultaneous electron beam irradiation
采用有机金属离子束沉积和同步电子束辐照在 Si(100) 上自组装闪锌 SiC 纳米瓦
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Matsumoto;T.Matsumoto;松本 貴士;T.Matsumoto;T.Matsumoto
- 通讯作者:T.Matsumoto
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
松本 貴士其他文献
Effect of helium as diluting gas on film deposition process during acetylene plasma
氦气作为稀释气体对乙炔等离子体沉积过程的影响
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
桒田 篤哉;中居 辰夫;佐々本 凌;篠原 正典;松本 貴士;田中 諭志 - 通讯作者:
田中 諭志
プラズマ化学気相体積中の体積位置による膜中の化学結合状態の変化
薄膜中化学键状态的变化取决于等离子体化学气相体积中的体积位置
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
石 侑叶;桒田 篤哉;中居 辰夫;佐々本 凌;篠原 正典;田中 諭志;松本 貴士 - 通讯作者:
松本 貴士
ヘリウム添加アセチレンプラズマにおけるヘリウム/アセチレン比による堆積膜の化学結合状態の変化
沉积薄膜化学键合状态的变化取决于氦掺杂乙炔等离子体中的氦/乙炔比率
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
桒田 篤哉;中居 辰夫;大石 侑叶;佐々本 凌;篠原 正典;田中 諭志;松本 貴士 - 通讯作者:
松本 貴士
IR spectroscopic study of film deposition process during acetylene plasma
乙炔等离子体薄膜沉积过程的红外光谱研究
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
中居 辰夫;桒田 篤哉;佐々本 凌;篠原 正典;松本 貴士;田中 諭志 - 通讯作者:
田中 諭志
アセチレンプラズマを用いた膜堆積におけるプラズマ供給電力の効果
等离子体电源对乙炔等离子体沉积薄膜的影响
- DOI:
- 发表时间:
2023 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
中居 辰也;桒田 篤哉;大石 侑叶;佐々本 凌;篠原 正典;田中 諭志;松本 貴士 - 通讯作者:
松本 貴士
松本 貴士的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('松本 貴士', 18)}}的其他基金
有機金属イオンビーム法による炭化ケイ素薄膜形成における反応機構の解明
有机金属离子束法碳化硅薄膜形成反应机理的阐明
- 批准号:
01J01051 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
相似海外基金
難病データベースとイオンビーム工学技術を応用した全身性強皮症の病態解明
利用疑难病数据库和离子束工程技术阐明系统性硬皮病的病理学
- 批准号:
24K11594 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
高速C60イオンビームによる有機分子薄膜のスパッタリング過程の解明
使用高速 C60 离子束阐明有机分子薄膜的溅射过程
- 批准号:
24K15594 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
イオンビーム加工に基づく黒体材料「暗黒シート」を実装した実用熱型絶対放射計の開発
开发实用的热绝对辐射计,实现基于离子束处理的黑体材料“暗片”
- 批准号:
24K03214 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
レーザープラズマの集束・捕獲による大強度重イオンビーム生成技術の開発
开发聚焦捕获激光等离子体的高强度重离子束发生技术
- 批准号:
23K21834 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
イオンビーム照射の高圧場を利用した超高硬度オキシナイトライドの合成
离子束辐照高压场合成超高硬度氮氧化物
- 批准号:
24K01212 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
相対論的イオンビームに対するレーザー荷電変換入射の研究
相对论性离子束激光电荷转换入射研究
- 批准号:
23K20406 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ナノ柱状構造形成と密着向上のためのポリイミド表面改質手法の開発
开发聚酰亚胺表面改性方法以形成纳米柱状结构并提高附着力
- 批准号:
23K04408 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
超広帯域電気光学効果を用いた新規超高速走査型プローブ顕微鏡法の確立
利用超宽带电光效应建立新型超快扫描探针显微镜方法
- 批准号:
22KJ0409 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Heavy-Ion Acceleration at J-PARC
J-PARC 的重离子加速
- 批准号:
23K03440 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
液体金属標的レーザーイオン源の開発
液态金属靶激光离子源的研制
- 批准号:
23H03658 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)














{{item.name}}会员




