デンタルインプラントにおけるオッセオインテグレーションの分子メカニズムの解明

点击翻译按钮获取中文摘要

デンタルインプラントのオッセオインテグレーションの分子メカニズムを解明するために実験を行い以下の結果を得た。1、オッセオインテグレーション過程における転写因子RUNX2の関与我々は昨年オッセオインテグレーションをIn Vitro実験系において再現する解析方法を確立した。本年度はその実験系を用いてオッセオインテグレーション過程における転写因子RUNX2の関与を検討した。その結果、未分化間葉系細胞C3H10T1/2細胞あるいはマウス新生児頭蓋骨由来初代骨芽細胞にRUNX2を過剰発現させると、チタン上での骨芽細胞分化ならびに石灰化が促進されることが明らかとなった。RUNX2の関与をさらに明らかにするために、支配的欠損型のRUNX2を作製し、チタン上での骨芽細胞分化および石灰化への影響を検討した。その結果、支配的欠損型RUNX2は細胞の増殖には影響を及ぼさなかったが、骨形成誘導たん白質BMP2によるチタン上での骨形成を完全に抑制することが明らかとなった。2、オッセオインテグレーション過程におけるMAPKカスケードの役割オッセオインテグレーションに関与する細胞内シグナル伝達因子をさらに明らかにするために、細胞がチタン粉末に接着する際に活性化される細胞内シグナル因子を検討した。その結果、未分化間葉系細胞C3H10T1/2細胞はチタン粉末との接着により、MAPギナーゼカスケードに属するErk1/2およびp38がリン酸化され活性化されていることが明らかとなった。本年度の研究成果をさらに発展させるために、次年度はチタン上で培養された細胞におけるRUNX2遺伝子とMAPキナーゼカスケードの関連性に着目し、オッセオインテグレーションの分子メカニズムの解明を行う。