アークイオンプレーティング法により作製したセラミック薄膜の機械特性および化学特性
アークイオンプレーティング法により作製したセラミック薄膜の機械特性および化学特性
电弧离子镀法制备陶瓷薄膜的力学和化学性能
批准号：
03J09087
负责人：
長谷川 裕之
金额：
$1.15万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2003
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2003 至 2004
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英文摘要
近年,金属材料等の表面に数ミクロンのセラミックス系硬質膜を被覆する表面処理技術が切削工具,摺動部材,精密金型をはじめとする工業分野で注目されている.カソディックアークイオンプレーティング法は物理蒸着法の1つであり,固体のアーク放電および高電圧のバイアスを印加するため,作製した膜には準安定な結晶構造が出現し,また優れた物理的特性を有することが知られている.これらの薄膜は,通常立方晶形のものが製品として使用されているが,立方晶から六方晶に相転移する領域で,特に高硬度を示すとの報告がある.しかしながら,電子顕微鏡やX線回折を用いた詳細な研究は報告例がなく,統一的に理解されていないのが現状である.そこで本研究では,金属原子を2種類以上含んだ多元系窒化物薄膜を作製し,X線回折法や高分解能透過型電子顕微鏡を用い,第2金属元素量および相変態に対する物性変化と微構造との関係を系統的に明らかにすることを目的とした.Ti_<1-X>Al_XNにCrを添加することでAl固溶限界の拡張を試みた.さらに作製した薄膜の熱処理による高温安定性およびアルミニウム原子の熱拡散が結晶構造に与える影響について調べた.立方晶Ti_XCr_YAl_ZNのAl固溶限界は73at.%まで増加し,立方晶から六方晶への相変態に対応し,微小硬度が29GPaから27GPaまで減少することがわかった.そして900℃に加熱すると,アルミニウム原子の熱拡散により立方晶から六方晶への結晶構造変化が生じ,1000℃では,格子定数が増加した.既存の薄膜を凌駕する材料開発を目的として,ボロン(B)元素添加による新たな硬質薄膜を作製した.具体的にはCr_<1-X>Al_XNをベースにB元素を添加し,微小硬度,微構造,耐酸化性を評価した.その結果,B元素を10at.%添加することによりCr_XAl_YB_ZNの硬度は27GPaから33GPaまで増加した.さらにB含有量の増加に伴い,格子定数は0.411nmから0.409nmまで減少した.
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DOI：
10.1016/j.surfcoat.2004.08.033
发表时间：
2004-11
期刊：
Surface & Coatings Technology
影响因子：
5.4
作者：
[H. Hasegawa;Tetsuya Suzuki]
通讯作者：
H. Hasegawa;Tetsuya Suzuki
Effects of Al contents microstructures of Cr_<1-X>Al_XN and Zr_<1-X>Al_XN films synthesized by cathodic arc Method
Al含量对阴极电弧法合成Cr_<1-X>Al_XN和Zr_<1-X>Al_XN薄膜微观结构的影响
Al含量对阴极电弧法合成Cr_<1-X>Al_XN和Zr_<1-X>Al_XN薄膜微观结构的影响
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Surface & Coatings Technology 200
影响因子：
--
作者：
[中野義夫, 斉藤真紀, 廣川能嗣, 中野 義夫 他, 中野義夫 他, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, 入谷 英司, 入谷 英司, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, 入谷 英司, 入谷 英司, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, 入谷 英司, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, T.Sato et al., K.Yonekura et al., H.Hasegawa et al., K.Yonekura et al., K.Yonekura et al., K.Yonekura et al., Hiroyuki Hasegawa et al., Kaoru Yonekura et al., Tomonari Yamamoto et al., Tomonari Yamamoto et al., Hiroyuki Hasegawa et al.]
通讯作者：
Hiroyuki Hasegawa et al.
Effects of nitrogen concentration on microstructures of WN_X films by cathodic arc method
氮浓度对阴极电弧法WN_X薄膜微观结构的影响
氮浓度对阴极电弧法WN_X薄膜微观结构的影响
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Surface & Coatings Technology 193
影响因子：
--
作者：
[中野義夫, 斉藤真紀, 廣川能嗣, 中野 義夫 他, 中野義夫 他, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, 入谷 英司, 入谷 英司, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, 入谷 英司, 入谷 英司, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, 入谷 英司, E.Iritani, E.Iritani, E.Iritani, T.Sato et al., K.Yonekura et al., H.Hasegawa et al., K.Yonekura et al., K.Yonekura et al., K.Yonekura et al., Hiroyuki Hasegawa et al., Kaoru Yonekura et al., Tomonari Yamamoto et al., Tomonari Yamamoto et al., Hiroyuki Hasegawa et al., Hiroyuki Hasegawa et al., Tomonari Yamamoto et al., Hiroyuki Hasegawa et al., Tomonari Yamamoto et al.]
通讯作者：
Tomonari Yamamoto et al.
DOI：
10.1016/j.surfcoat.2005.03.013
发表时间：
2006-02
期刊：
Surface & Coatings Technology
影响因子：
5.4
作者：
[H. Hasegawa;T. Yamamoto;Tetsuya Suzuki;Kenji Yamamoto]
通讯作者：
H. Hasegawa;T. Yamamoto;Tetsuya Suzuki;Kenji Yamamoto
Ayako Kimura et al.: "Anisotropic lattice expansion and shrinkage of hexagonal TiAlN and CrAlN films"Surface and Coatings Technology. 169-170. 367-370 (2003)
Ayako Kimura 等人：“六方 TiAlN 和 CrAlN 薄膜的各向异性晶格膨胀和收缩”表面和涂层技术。
Ayako Kimura 等人：“六方 TiAlN 和 CrAlN 薄膜的各向异性晶格膨胀和收缩”表面和涂层技术。
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 7 条
Organic electronics opened up by unique integration methods of functional molecular materials
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批准号：23K04876
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.0万
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财政年份：2023
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负责人：長谷川 裕之
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依托单位：
海外基金