Verfahrenskombination Steered- Arc-/ Modifiziertes Puls-Arc-Verfahren

引导电弧/改良脉冲电弧工艺的工艺组合

• 批准号: 5342420
• 负责人: Professor Dr.-Ing. Hubert Mecke (†)
• 金额: --
• 依托单位: Lehrstuhl für Leistungselektronik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2001
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2000-12-31 至 2003-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5342420?language=en
• 关键词: Verfahrenskombination; Steered; Arc; Modifiziertes; Puls

Das Ziel des geplanten Forschungsvorhabens besteht in der Schaffung eines Vakuumlichtbogen-Beschichtungsverfahrens, das sich durch eine hohe Beschichtungsrate, eine geringe Dropletemission und eine hohe Targetausnutzung auszeichnet. Dem Vorteil der geringeren Dropletemission stehen beim industriell etablierten Steered-Arc-Prozess im Vergleich zum Random-Arc die Nachteile, wie verringerter Ionenstrom und reduzierte Schichtbildungsrate gegenüber. Die Eigenschaften des modifizierten Puls-Arc-Verfahrens, wie die erhöhte Geschwindigkeit der katodischen Lichtbogenfußpunkte, die höhere Plasmaaktivierung und die Veränderung der räumlichen Emissionscharakteristik führen zu technologischen Vorteilen, wie z. B. der verbesserten Targetausnutzung, der Erhöhung des mittleren Ionenstroms am Substrat und damit der Erhöhung der Beschichtungsrate. Die immer noch zu hohe Dropletemission im Vergleich zum DC-Arc und die nicht definierbare Position der Spots am Impulsbeginn sind als Nachteile zu sehen. Die vorgesehenen Untersuchungen sollen der Anwendung des Steered-Arc-Verfahrens und des modifizierten Puls-Arc-Verfahrens in der PVD-Beschichtung neue Möglichkeiten eröffnen. Die resultierenden Erkenntnisse werden das Verständnis für die komplexen Vorgänge im Lichtbogen und insbesondere an den Fußpunkten erweitern.

在Schaffung的一个真空消毒器中，该装置最好是通过一个高浓度的消毒剂，一个高浓度的滴液和一个高浓度的靶向消毒剂来进行。在工业上，可以在随机电弧中建立操纵电弧过程，从而使液滴喷射过程变得更快，从而使离子流更快，并使Schichtbildungsrate更小。Die Eigenschaften des modifizierten Puls-Arc-Verfahrens，wie ehöhte Geschwindigkeit der katodischen Lichtbogenfußpunkte，die höhere Plasmaaktivierung und die Veränderung der räumlichen Emissionscharakteristik führen zu technologischen Vorteilen，wie z。B。der verbesserten Targetausnutzung，der Erhöhung des mittleren Ionenetram Substrat und damit der Erhöhung der Beschichtungsrate. Die noch noch zoo hohe Dropletemission im Vergleich zum DC-Arc and die nichte definerbare Position der Spots am immediately beginn sind als Nachteile zu sehen.在PVD-Beschichtung neue Möglichkeiten eröffnen中，转向弧变矩器的安装和脉冲弧变矩器的修改将解决该问题。Die resultierenden Erkenntnisse韦尔登das Verständnis für die komplexen Vorgänge im Lichtbogen und insbesondere an den Fußpunkten erweitern.