Ion current adapted arc current to influence the layer properties

离子电流适应电弧电流以影响层特性

• 批准号: 5190420
• 负责人: Professor Dr.-Ing. Hubert Mecke (†)
• 金额: --
• 依托单位: Lehrstuhl für Leistungselektronik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2000
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1999-12-31 至 2001-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5190420?language=en
• 关键词: Ion; current; adapted; arc; influence

Die geplanten Untersuchungen dienen dem Ziel, den Verdampferstrom bei der Vakuumlichtbogenbeschichtung in seinem Verlauf, seiner Impulsform und seinen Parametern so zu steuern, daß ein optimaler Ionenstrom am Substrat auftritt (ionenstromadaptierter Bogenstromführung). Dem Verfahren liegt die Idee zu Grunde, einzelne, während eines Stromimpulses ablaufende Prozesse der Schichtbildung gezielt steuern zu können. Aus dem bisherigen Erkenntnisstand zur Prozeßbeeinflußung durch die elektronische Stromversorgung beim modifizierten Puls-ArcVerfahren ergibt sich die Annahme, die Eigenschaften der abgeschiedenen Hartstoffschicht definiert über den durch die elektrischen Parameter der Pulsstromversorgung vorgegebenen Strom der schichtbildenden Metallionen steuern zu können.

Die geplanten Untersuchungen dienen dem Ziel，den Verdampferstrom bei der Vakuumlichtbogenbeschichtung in seinem Verlauf，seiner Imperformance und seinen Parameter so zu steuern，daecraler Ionenstrom am Substrat auftritt（ionenstromadaptierter Bogenstromführung）. Dem Verfahren liegt die Idee zu Grunde，einzelne，während eines Stromimpulses ablaufende Prozesse der Schichtbildung gezielt steuern zu können.通过对Annahme进行修改后的脉冲电弧整流器的电涡流对Prozeßbeeinflußung的影响，通过电涡流参数确定了金属整流器的脉冲涡流特性。