大気圧PLD生成RGBフルカラー有機EL素子

常压PLD生成RGB全彩有机EL元件

• 批准号: 16760027
• 负责人: 大島 多美子
• 金额: $ 1.66万
• 依托单位: Sasebo National College of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2004
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2004 至 2005
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16760027/
• 关键词: パルスレーザデポジション; 有機エレクトロルミネッセンス; 薄膜; フォトルミネッセンス; パルスレーザ堆積(PLD)法; 有機EL薄膜; プラズマプルーム; 発光分光

KrFエキシマレーザ(248nm),Nd:YAGレーザの基本波(1064nm)および第2高調波(532nm)の波長の異なる3種類のレーザを用い,大気圧下パルスレーザ堆積(PLD)プロセスによるAlq_3,TPD,PVCz有機EL薄膜の作製を目的とした。まず,レーザパラメータ(レーザ波長,レーザフルエンス)が堆積膜に及ぼす影響や,アブレーション時の発光粒子挙動を調べ,最適作製条件を求めた。その結果Alq_3,TPD薄膜において,レーザパラメータが堆積膜の構造・光学特性や堆積プロセスに影響することを,X線回折装置,光透過スペクトル,フォトルミネッセンス測定により明らかにした。またポリマーPVCz薄膜の形成では,プロセス条件と堆積膜との相関関係を赤外吸収分光計により定量的に検証した。これよりPLDプロセスは,次世代自発光有機材料作製プロセスとしての可能性を示した。次に,様々な雰囲気ガス種およびガス圧力下で有機薄膜の作製を行い,真空中に比べて窒素(N_2)ガスを用いた場合に堆積膜の特性が改善された。これはアブレーション過程でターゲット材から分解されたN原子が,N_2ガスを用いることによって効率良く膜中に取り込まれたためであり,フーリエ変換型赤外分光光度計で構造特性の改善が確認された。またN_2ガス圧力の増加(〜200mTorr)に伴い,フォトルミネッセンススペクトル強度が大きく現れたことから,適当な圧力でN_2ガスを封入することにより,発光特性の改善を行うことができた。さらに大気圧に近い圧力下で薄膜の作製を試みたが,アブレーション粒子が基板に到達するためにはターゲット-基板間距離を近づけることが重要となり設計等が難しいことから,予め最適作製条件下で透明基板上に堆積した有機薄膜に背面からレーザを照射することにより,接近させた別の基板上にドット転写する新しい手法が考えられる。

KrF エ キ シ マ レ ー ザ (248 nm), Nd: YAG レ ー ザ の basic wave (1064 nm) お よ び 2 high-profile wave wavelength (532 nm) の の different な る 3 kinds の レ ー ザ を い, big 気 圧 under パ ル ス レ ー ザ accumulation (PLD) プ ロ セ ス に よ る Alq_3, TPD, PVCz を organic EL film の system Objective: と た. ま ず, レ ー ザ パ ラ メ ー タ (レ ー ザ wavelength, レ ー ザ フ ル エ ン ス) が accumulation and ぼ に す affect や, ア ブ レ ー シ ョ ン when の 発 挙 light particles motion を べ, conditions for the optimal cropping を o め た. Alq_3 そ の results, TPD film に お い て, レ ー ザ パ ラ メ ー タ の が accumulation membrane structure, optical properties や accumulation プ ロ セ ス に influence す る こ と を, X-ray inflexion device, light through ス ペ ク ト ル, フ ォ ト ル ミ ネ ッ セ ン ス determination に よ り Ming ら か に し た. ま た ポ リ マ ー の PVCz film forming で は, プ ロ セ ス accumulation conditions と membrane と の phase masato masato is を red outside 収 absorption spectrometer に よ り quantitative に 検 card し た. The possibility of fabricating プロセスと て て with next-generation self-emitting organic materials を indicates た. に, others 々 な 雰 囲 気 ガ ス kind お よ び ガ ス で organic thin film under pressure line を い the の cropping systems, vacuum に than べ て smothering element (N_2) ガ ス を with い た occasions に accumulation membrane の features が improve さ れ た. こ れ は ア ブ レ ー シ ョ ン process で タ ー ゲ ッ ト material か ら decomposition さ れ た N atom が, N_2 ガ ス を with い る こ と に よ っ て in good working rate く membrane に take り 込 ま れ た た め で あ り, フ ー リ エ - HuanXing red spectrophotometer で tectonic features の improve が confirm さ れ た. ま た N_2 ガ ス pressure の rights (~ 200 mtorr) に with い, フ ォ ト ル ミ ネ ッ セ ン ス ス ペ ク ト ル strength が big き く now れ た こ と か ら, appropriate な pressure で N_2 ガ ス を す sealed る こ と に よ り, 発 light features の improve line を う こ と が で き た. さ ら に big 気 圧 に nearly い で film under pressure の cropping を try み た が, ア ブ レ ー シ ョ ン particles arrive が substrate に す る た め に は タ ー ゲ ッ ト - the distance between the substrate を nearly づ け る こ と が important と な り design が difficult し い こ と か ら, under the condition of the optimal cropping to め で transparent substrate に accumulation し た organic thin film on the back of に か ら レ ー ザ を irradiation す る こ と Youdaoplaceholder0 によ, close to させた, write にドット転 on the にドット転 substrate する, new <s:1> technique が test えられる.

项目成果

Preparation of Carbon Nano-Materials Using Arc Discharge in Liquid

液体中电弧放电制备碳纳米材料

• 发表时间: 2005
• 期刊: Materials Research Society Vol.829, B9.17
• 作者: Y.Suda;H.Kawasaki;T.Ohshima;S.Nakashima;S.Kawazoe;T.Toma
• 通讯作者: T.Toma

Preparation of high quality nitrogen doped TiO2 thin film as a photocatalyst using a pulsed laser deposition method

• DOI: 10.1016/j.tsf.2003.11.185
• 发表时间: 2004-04
• 期刊: Thin Solid Films
• 影响因子: 2.1
• 作者: Y. Suda;Hiroharu Kawasaki;T. Ueda;T. Ohshima

Preparation of nitrogen-doped titanium oxide thin film using a PLD method as parameters of target material and nitrogen concentration ratio in nitrogen/oxygen gas mixture

• DOI: 10.1016/j.tsf.2004.07.047
• 发表时间: 2005-03
• 期刊: Thin Solid Films
• 影响因子: 2.1
• 作者: Y. Suda;Hiroharu Kawasaki;T. Ueda;T. Ohshima

Preparation of high quality nitrogen doped TiO_2 thin films as a photocatalyst using a pulsed laser deposition method

脉冲激光沉积法制备高质量氮掺杂TiO_2光催化剂薄膜

• 发表时间: 2004
• 期刊: Thin Solid Films 453-454
• 作者: Y.Suda;H.Kawasaki;T.Ohshima;S.Nakashima;S.Kawazoe;T.Toma;Hiroharu Kawasaki;Yoshiaki Suda
• 通讯作者: Yoshiaki Suda

Properties of metal doped tungsten oxide thin films for NOx gas sensors grown by PLD method combined with sputtering process

• DOI: 10.1016/j.snb.2003.12.052
• 发表时间: 2004-06-01
• 期刊: SENSORS AND ACTUATORS B-CHEMICAL
• 影响因子: 8.4
• 作者: Kawasaki, H;Ueda, T;Ohshima, T
• 通讯作者: Ohshima, T