高温高圧技術を用いた窒化ガリウム-窒化アルミニウム合金のバルク単結晶育成
利用高温高压技术生长氮化镓-氮化铝合金的块状单晶
基本信息
- 批准号:16760538
- 负责人:
- 金额:$ 2.11万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2004
- 资助国家:日本
- 起止时间:2004 至 2006
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究は研究代表者により開発された新しい窒化ガリウム単結晶合成、すなわち高圧下で分解を抑制し安定に試料を加熱することで単結晶を育成する手法をもとに、任意組成の窒化アルミニウム-窒化ガリウム合金のバルク単結晶育成を行い、格子定数およびバンドギャップエネルギーの組成依存性を実験的に決定することを目的とする物である。6GPa,800℃以上で、AlNとGaNの混合粉末が固相反応することを放射光その場観察で見いだした。この固相反応を利用し0≦x≦1の組成領域でAl_xGa_<1-x>N多結晶焼結体を合成した。得られた試料について、仕込み組成と格子定数の関係を測定した。格子定数はa軸およびc軸ともに仕込み組成に対して連続的に変化していて、任意組成のAl_xGa_<1-x>N半導体合金が得られていることを確認した。得られた結晶サイズは最大で100μm程度である。出発物質中に不純物として含まれる酸化ガリウムが、高温高圧下での窒化アルミニウムと窒化ガリウム間の固相反応の開始温度を下げることを見いだした。研究代表者は6.0GPa,800℃以上で窒化アルミニウムと窒化ガリウム粉末が固相反応し合金を形成することを見いだした。一方、特殊な製法で作製された高純度の窒化ガリウム粉末を出発物質として使用した場合、この固相反応が1800℃まで開始しないことが放射光その場観察実験で明らかになった。回収試料の分析から、不純物である酸化ガリウムがこの反応において触媒的な役割をしていることがわかった。本研究では光物性の測定に耐えうるサイズのAl_xGa_<1-x>N結晶を得ることはできなかった。しかしながら成長基板を用いない自立したバルク結晶は他の手法では得られないものである。今後さらに物性測定を進め、Al_xGa_<1-x>Nの物性の解明につなげる。
This study は representatives に よ り open 発 さ れ た new し い smothering the ガ リ ウ ム 単 crystallization synthesis, す な わ ち で decomposition under high 圧 を inhibit し settle に sample を heating す る こ と で 単 crystallization を bred す る gimmick を も と に, arbitrary の smothering the ア ル ミ ニ ウ ム - smothering the ガ リ ウ ム alloy の バ ル ク 単 crystallization bred を い, lattice constant お よ び バ ン ド ギ The に of the を dependent を experiment determines the する とを とを とを とを とを the とする of the とする object である. 6 gpa, above 800 ℃ で, AlN と GaN の mixed powder が solid instead 応 す る こ と を ray そ の field 観 examine で see い だ し た. The <s:1> <s:1> solid-state phase 応を is used to form the domain でAl_xGa_<1-x>N polycrystalline 焼 structure を to synthesize <s:1> た. The られた test material に た て て て て and 込み form a と lattice determination <s:1> relationship を to determine the た. Lattice constant は a shaft お よ び c axis と も に shi 込 み composition に し seaborne て even 続 に variations change し て い て, arbitrary の Al_xGa_ < 1 - x > N semiconductor alloy が must ら れ て い る こ と を confirm し た. The られた crystals are obtained サ サ ズ ズ で maximum で100μm degree である. に 発 material is not pure thing と し て containing ま れ る acidification ガ リ ウ ム が, under high temperature and high 圧 で の smothering the ア ル ミ ニ ウ ム と smothering the ガ リ ウ ム の is opposite between 応 の began を temperature げ る こ と を see い だ し た. Research representatives は 6.0 GPa, above 800 ℃ で smothering the ア ル ミ ニ ウ ム と smothering the ガ リ ウ ム が solid powder instead 応 し alloy を form す る こ と を see い だ し た. One method, special な で cropping さ れ た high-purity の smothering the ガ リ ウ ム powder を と 発 substance し て use し た occasions, こ の solid instead 応 が 1800 ℃ ま で start し な い こ と が ray そ の field 観 examine be 験 で Ming ら か に な っ た. Back 収 material の analysis か ら, impurity content で あ る acidification ガ リ ウ ム が こ の anti 応 に お い て cut catalytic な battle を し て い る こ と が わ か っ た. This study で は light property の determination に え う る サ イ ズ の Al_xGa_ < 1 - x > N crystallization を must る こ と は で き な か っ た. The ながら growth substrate を is used to stand on its own by the <s:1> な な たバ the <s:1> crystallization by other <s:1> techniques で で to obtain the られな <s:1> <s:1> である である である. In the future, the determination of さらに physical properties を will be further advanced to め, and the <s:1> physical properties <e:1> of Al_xGa_<1-x>N will be clarified に に なげる なげる.
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
高圧下における窒素ガリウムの一致熔融:融液徐冷法による単結晶の合成
高压氮镓同时熔化:缓慢熔融冷却法合成单晶
- DOI:
- 发表时间:2004
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:内海渉;齋藤寛之;青木勝敏;金子洋;桐山幸治
- 通讯作者:桐山幸治
Single crystal growth of Gallium Nitride by slow-cooling of its congruent melt under high pressure
高压同质熔体缓冷生长氮化镓单晶
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:内海渉;齋藤寛之;谷口尚;青木勝敏;W.Utsumi,H.Saitoh,H.Kaneko,K.Kiriyama and K.Aoki
- 通讯作者:W.Utsumi,H.Saitoh,H.Kaneko,K.Kiriyama and K.Aoki
The phase and crystal-growth study of group-III nitrides in a 2000℃ at 20 GPa region
20 GPa、2000℃下III族氮化物的物相和晶体生长研究
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Saitoh,W.Utsumi,H.Kaneko;and K.Aoki
- 通讯作者:and K.Aoki
Synthesis of Al_xGa_<1-x>N and InN crystals under high pressures
高压下合成Al_xGa_<1-x>N和InN晶体
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Saitoh,W.Utsumi,H.Kaneko;and K.Aoki
- 通讯作者:and K.Aoki
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