エピタキシャルアルミナ膜の成長制御と物性その場観察

外延氧化铝薄膜的生长控制及物理性能的原位观察

• 批准号: 05F05613
• 负责人: 吉武 道子
• 金额: $ 1.54万
• 依托单位: National Institute for Materials Science
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for JSPS Fellows
• 财政年份: 2005
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2005 至 2007
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05F05613/
• 关键词: アルミナ; その場観察; アルミナ膜; 超高真空; X線光電子分光

受入研究室において開発した方法を用いて、超高真空中、非常に低い酸素分圧下においてCu-9A1(111)単結晶表面を酸化することにより作製される、厚さ1-4nmのエピタキシャルアルミナ膜のトンネルバリア、担持基板としての性質を検討するために、エピタキシャルアルミナ膜上へのリン酸基有機分子の自己組織化に関する研究を行った。まず、リン酸基有機分子として、比較的安定性が高く、真空蒸着法に適切なフェニルリン酸を選び、反応を起こさないガラス容器中に入れて、外部からヒーターにより350Kに加熱昇華させて蒸着する方法により、Cu-9A1(111)上に成長したエピタキシャルアルミナ膜上にフェニルリン酸自己組織化膜の成長を行った。その成長を、X線光電子分光法(XPS)、紫外光電子分光法(UPS)、反射赤外分光法(IRAS)によりその場観察した。蒸着後のP2p、Al2p、Cs1、01sX線光電子ピークを測定し、それぞれのピークの結合エネルギーからアルミナ膜とリン酸との結合状態を解析した。また、反射赤外分光法によりO-P結合、O=P結合の振動スペクトルを解析した。いずれの結果からも、前年度のアモルファスアルミナ上に吸着したフェニルリン酸と同様に、リン酸基を介してリン酸とアルミナ膜が3つのAl-0-P結合を介して結合し、フェニル基が表面垂直に立った状態で吸着していることが判明した。

The method of development in the laboratory was used in ultra-high vacuum, very low acid pressure, acidification of Cu-9A1 (111) single crystal surface, preparation of 1-4nm thick films, and properties of supporting substrates. Research on the self-organization of organic molecules on the surface of thin films The stability of organic molecules based on organic acids is relatively high. The vacuum evaporation method is suitable for the selection of organic acids. The reaction temperature is 350K. The reaction temperature is 350K. Growth, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS), reflection infrared spectroscopy (IRAS) P2p, Al2p, Cs1, 01s X-ray photoelectron measurements after evaporation, and analysis of the binding state of P2p, Al2p, Cs1, 01s O-P binding, O=P binding and vibrational analysis by reflectance spectroscopy The results of the previous year showed that the Al-0-P binding of the Al-0-P film was 3 times higher than that of the Al-0-P binding of the Al-0-P film, and the Al-0-P binding of the Al-0-P film was 3 times higher than that of the Al-0-P binding of the Al-0-P film.

项目成果

Vacuum vapour deposition of phenylphosphonic acid on amorphous alumina

• DOI: 10.1016/j.susc.2007.05.007
• 发表时间: 2007-07
• 期刊: Surface Science
• 影响因子: 1.9
• 作者: N. Tsud;M. Yoshitake

Vacuum vapor deposition of phenylphosphonic acid on amorphous alumina

无定形氧化铝上真空气相沉积苯基膦酸

• 期刊: Surface Science (印刷中)
• 作者: N.Tsud;M.Yoshitake
• 通讯作者: M.Yoshitake