リン酸基をアンカーとする有機SAM膜とFET構造
リン酸基をアンカーとする有機SAM膜とFET構造
批准号:
08F08792
负责人:
吉武 道子
金额:
$1.28万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2010
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英文摘要
ナノメーター厚さの良く制御されたアルミナ膜は、絶縁性に優れ、電界効果トランジスタ(FET)の絶縁層として有望な材料である。受入研究者のグループではエピタキシャルアルミナ膜の成長に関して研究を行っており、博士課程で当グループと共同してCu-Al合金単結晶上のアルミナ膜成長を研究してきたNEMSAK氏と、エピタキシャルアルミナ膜上に、酸素を介して化学結合を作って自己組織化すると期待されるリン酸基をもつ有機分子を配列させる研究を行う。特に、Cu-Al合金単結晶上のアルミナ膜成長の系に加えて、純銅単結晶上にエピタキシャルアルミナ膜を成長させて、二つのアルミナ膜上にフェニルリン酸を蒸着し、X線光電子分光法、紫外線光電子分光法、ケルビンプローブ法、低速電子線回折法、走査型トンネル顕微鏡法などの手法を用いて有機膜成長のその場観察と物性のその場評価を行う。本年度は、ニッケルおよびコバルト単結晶上にエピタキシャルアルミナ膜を成長させ、ニッケル・コバルトのフェルミレベルとアルミナのバレンスバンドとのバンドオフセットの測定を行い、いずれの場合も界面が酸素原子になっていることを明らかにした。また、エピタキシャルアルミナ膜を、微量のシリコンを添加したニッケル基板上で同様に行うと、アルミナ膜中にシリコンが取り込まれ、エピタキシャルアルミノシリケート膜が成長し、同じ酸素原子終端界面でもバンドアライメントが異なることを明らかにした。
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The growth of Au/Pd/alumina/Cu–Al system studied by SRPES
SRPES 研究 Au/Pd/氧化铝/Cu-Al 体系的生长
DOI:
10.1016/j.apsusc.2008.01.057
发表时间:
2008
期刊:
Applied Surface Science
影响因子:
6.7
作者:
[S. Nemšák, J. Libra, T. Skála, K. Mašek, M. Škoda, M. Cabala, V. Matolín]
通讯作者:
V. Matolín
Modification of terminating species and band alignment at the interface between alumina films and metal single crystals
氧化铝薄膜与金属单晶界面处终止物质和能带排列的改性
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
Surf.Sci.
影响因子:
--
作者:
[Michiko Yoshitake, Slavomir Nemsak, Tomas Skala, Nataliya Tsud, Taeyoung Kim, Vladimir Matolin, Kevin C.Prince]
通讯作者:
Kevin C.Prince
界面終端原子の種類とバンドオフセット
界面终止原子的类型和能带偏移
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[吉武道子, Slavomir NEMSAK, 柳生進二郎, 知京豊裕]
通讯作者:
知京豊裕
金属・アルミナ界面終端原子種制御の熱力学
控制金属与氧化铝界面原子种类的热力学
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[吉武道子, Nemsak Slavomir, 柳生進二郎, 知京豊裕]
通讯作者:
知京豊裕
金属-アルミナ界面のバンドオフセットにおける界面終端と結合強さ
金属-氧化铝界面带偏移处的界面终止和结合强度
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[吉武道子、 Slavomir NEMSAK、Thomas SKALA、Nataliya TSUD、Peter HANYS, Vladimir MATOLIN、Kevin PRINCE]
通讯作者:
Vladimir MATOLIN、Kevin PRINCE
共 13 条
マテリアルキュレーションのための物性間関係性データ作成・検索技術
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批准号:19K05287
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.75万
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财政年份:2019
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负责人:吉武 道子
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依托单位:
エネルギー材料の素子動作下における界面解析
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批准号:15F15794
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2015
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负责人:吉武 道子
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依托单位:
エピタキシャルアルミナ膜の成長制御と物性その場観察
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批准号:05F05613
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2005
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负责人:吉武 道子
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依托单位:
低速イオン照射によるナノ凹凸配列の形成を利用した有機分子配列制御
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批准号:04F04504
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2004
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负责人:吉武 道子
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依托单位:
海外基金