有機半導体薄膜上に付着した金属クラスターの反応性・拡散性の研究

有机半导体薄膜上附着的金属团簇的反应性和扩散性研究

• 批准号: 16750011
• 负责人: 吉田 弘幸
• 金额: $ 2.18万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2004
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2004 至 2005
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16750011/
• 关键词: 有機半導体; 有機-金属界面; クラスター; 薄膜; PTCDA; 拡散; 蒸着

1.PTCDA薄膜上へのアルミニウムクラスター蒸着代表的な有機半導体である3,4,9,10-perylenetetracalboxylic dianhydride(PTCDA)の薄膜上に1000量体前後のアルミニウム(Al)クラスターを蒸着し、透過型電子顕微鏡(TEM)と電子線回折(LEED)で調べた。また、通常の真空蒸着法によりAl原子を蒸着し比較した。この結果、クラスター蒸着では、Al微粒子が確認されたが、通常法ではAl微粒子は観測されなかった。このことは、Al原子はPTCDA薄膜中に容易に拡散するのに対し、Alクラスターは拡散しにくいことを示している。しかし、TEMで観測された粒子径は、もとのクラスターの粒子径よりも2倍以上大きく、PTCDA上のAl微粒子からもAlがPTCDA薄膜中に拡散しうることがわかった。2.PTCDA薄膜へのアルミニウムの拡散機構の検討PTCDA上のAlの拡散について、角度分解X線光電子分光法(ARXPS)により調べた。この結果、(a)蒸着中のAl原子と(b)蒸着後の金属Al(Al薄膜またはAl微粒子)は、ともにPTCDA薄膜中に拡散し、PTCDA分子と反応することがわかった。上の1の結果とあわせると、PTCDAとAlでは、通常蒸着法では(a)と(b)が同時に起こり、クラスター蒸着では(a)が抑制され主に(b)が起こると考えられる。3.クラスター蒸着法の特徴をいかしうる有機半導体と金属クラスターの探査PTCDAとAlの組み合わせでは、(b)が大きいため通常蒸着とクラスター蒸着のどちらでも有機薄膜中への金属の拡散が起こり、頭書の目的であるクラスター蒸着による有機・金属界面の制御には不向きである。そこで通常蒸着法とARXPSにより(b)が小さい有機薄膜と金属の組み合わせを探した。その結果、ペンタセン薄膜と金の組み合わせが蒸着後の金属の拡散が少ないことがわかった。そこで、現在、金クラスターの生成を試みている。

1. PTCDA membrane へ の ア ル ミ ニ ウ ム ク ラ ス タ ー steamed representing な organic semiconductor で あ る 3,4,9,10 - perylenetetracalboxylic Dianhydride (PTCDA) の membrane に after 1000 devices for の ア ル ミ ニ ウ ム (Al) ク ラ ス タ ー を steamed し, through type electronic 顕 micromirror と electronic line (TEM) back to the fold (LEED) で adjustable べ た. Youdaoplaceholder0. Usually, the <s:1> vacuum evaporation method によ Al atoms を evaporation <s:1> comparison た. <s:1> されたが results, で ラスタ ラスタ で evaporation で, Al microparticle が confirmation されたが, conventional method で Al microparticle 観 観 measurement されな った った. こ の こ と は, Al atoms は PTCDA film に に easily in the company, scattered す る の に し seaborne, Al ク ラ ス タ ー は company, scattered し に く い こ と を shown し て い る. し か し, TEM で 観 measuring さ れ た particle diameter は, も と の ク ラ ス タ ー の particle diameter よ り も 2 times more than き く, の Al particles on PTCDA か ら も Al が PTCDA に in the film company, scattered し う る こ と が わ か っ た. 2. PTCDA film へ の ア ル ミ ニ ウ ム の company, loose organization の beg on PTCDA 検 の Al の company, scattered に つ い て decomposition, Angle X-ray photoelectron spectrometry (ARXPS) に よ り adjustable べ た. こ の results, steamed with と の Al atoms in (a) (b) after steamed の metal Al (Al film ま た は Al particles) は, と も に PTCDA に in the film company, scattered し, molecular と PTCDA 応 す る こ と が わ か っ た. の 1 の results on と あ わ せ る と, PTCDA と Al で は, usually steamed で は と (a) (b) also が に こ り, ク ラ ス タ ー steamed で は が inhibition (a) さ れ main に が (b) the こ る と exam え ら れ る. 3. ク ラ ス タ ー の steamed method, 徴 を い か し う る organic semiconductor と metal ク ラ ス タ ー の probe PTCDA と Al の group み close わ せ で は, (b) が き い た め usually steamed と ク ラ ス タ ー steamed の ど ち ら で も organic thin film へ の metal の company, scattered が up こ り, the purpose of the first book の で あ る ク ラ ス タ ー steamed に よ る organic metal industry The face control に に does not face に である. そ こ で usually steamed method と ARXPS に よ り (b) small が さ い organic film と metal の group み close わ せ を agent し た. そ の results, ペ ン タ セ ン film と gold の group み close わ せ が steamed after の metal の company, scattered が less な い こ と が わ か っ た. Youdaoplaceholder0 そ で で, now, Kim ラスタ ラスタ ラスタ を generate を try みて る る る.

项目成果

Deposition of Acrylonitrile Cluster Ions on Solid Substrates : Thin Film Formation by Intracluster Polymerization Products

丙烯腈簇离子在固体基底上的沉积：簇内聚合产物形成薄膜

• 发表时间: 2006
• 期刊: J.Chem.Phys.B 110・9
• 作者: 吉田弘幸;佐藤直樹
• 通讯作者: 佐藤直樹