ティッシュエンジニアリングを応用した新しい歯根修復材料の開発

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本研究はティッシュエンジニアリングを応用した新しい歯根修復材料の開発を目的としている。従来の歯根修復は欠損部の補填にとどまっていたが、生体材料と歯根膜由来細胞を用いることで歯根膜組織ならびにセメント質を有する歯根修復を目指している。昨年度までに、コラーゲンやポリ乳酸/ポリグリコール酸といった生体吸収性材料上での歯根膜由来線維芽細胞の動態、ならびにラット下顎に形成された歯周組織欠損部に生体材料を移植したときの組織学的観察を行ってきた。本年度はさらに応用する細胞について詳しく検討した。1.これまで、歯根膜由来細胞を用いて歯根膜組織ならびにセメント質の修復を目指してきた。歯根膜細胞ならびにセメント芽細胞は間葉系幹細胞由来と言われており、ごく最近になってヒト智歯歯胚からもこの間葉系幹細胞を分離できたとする報告がある。ヒト智歯歯胚は、年齢によっては比較的採取容易な埋伏歯であり、矯正学的理由により抜去された智歯歯胚は有効な間葉系幹細胞の供給源と考えられ、我々の目指す歯根修復にも有用であると考えられる。これまで報告のなかった、間葉系幹細胞の局在を免疫組織化学的に検討したところ、幹細胞マーカーの一つであるSTRO-1の反応が歯乳頭の血管周囲に存在していた。また、同抗体でエナメル芽細胞および象牙芽細胞も陽性を示すことがわかった。2.ヒト智歯歯胚から幹細胞のマーカーSTRO-1およびマグネットを利用して、間葉系幹細胞を分離培養することができた。その回収率は、7.35±4.12%であった。