新規193nm用フォトレジスト材料の開発
新規193nm用フォトレジスト材料の開発
新型193nm光刻胶材料的开发
批准号：
17750103
负责人：
芝崎 祐二
金额：
$1.22万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2005
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2005 至 --
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
アザカリックスアレーントリアジン環の相互作用の解明とポリマー材料への展開
-
批准号：21K05178
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额：$2.75万
-
财政年份：2021
-
负责人：芝崎 祐二
-
依托单位：
新規193nm用フォトレジスト材料の開発
-
批准号：18750093
-
项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
-
资助金额：$2.37万
-
财政年份：2006
-
负责人：芝崎 祐二
-
依托单位：
アルカリ現像可能な低誘電性を有する感光性ポリイミドの開発
-
批准号：15750099
-
项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
-
资助金额：$1.98万
-
财政年份：2003
-
负责人：芝崎 祐二
-
依托单位：