アルカリ現像可能な低誘電性を有する感光性ポリイミドの開発

可碱显影的低介电性感光性聚酰亚胺的开发

基本信息

  • 批准号:
    15750099
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.98万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2003
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2003 至 2004
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

有機層間絶縁膜で実績の高いポリイミドに着目し、スルホン酸をアルカリ可溶性基として導入し、"低誘電性を有するアルカリ現像可能な感光性ポリイミド"の開発を行った。昨年、1,3-フェニレンジアミン-4-スルホン酸、4,4'-オキシジアニリン(ODA)、および4,4'-ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸無水物(6FBPDA)をトリエチルアミン存在下メタクレゾール中80℃で4時間、180℃で1.5時間攪拌することでスルホン酸を有するポリイミドを合成し、このフィルムに溶解抑止剤であるジアゾナフトキノン誘導体(S-DNQ)を加え感光性ポリマーとし、波長365のi線(露光量100mJ/cm^2)にて露光、工業ライン規格のアルカリ現像液にて現像を行った結果、10ミクロン幅のライン&スペースの解像が可能であることを見出している。さらに、このポジ型パターンを350℃で2時間加熱処理を行うことで、型崩れなく、スルホン酸の除去に成功している。本年度はこの知見を基に、スルホン酸を有する種々のジアミンモノマー4種を合成し、これとODA、6FBPDAをコモノマーとして上記と同様の条件で重合を行った。得られたポリマーの分子量は16,000から34,000であり、フォトレジストとして用いるのにちょうど良い分子量であった。得られたポリマーはすべてフィルム形成可能であり、しかも強靭であった。スルホン酸の導入量はなるべく少ない方が除去も完全に行えるので、合成したポリマーのうちジアミン成分に2,2'-チオビス(5-アミノベンゼンスルホン酸)を有するものを選び、6割をこのモノマー、4割をODAとした時に得られるポリマーをマトリックスとした。このポリマーフィルムのアルカリ現像液に対する溶解速度は38nm/sであり、溶解速度としては適当であった。この系にS-DNQを加え、感光性ポリマーとした後、365nm光にてマスクを通して露光、アルカリ現像にてポジ型の画像を得た。このフィルムを350度にて加熱することでスルホン酸の完全な除去を確認した。
The development of organic interlayer insulating films with high dielectric properties, high dielectric properties, low dielectric properties, and low dielectric properties Last year, 1,3-bis (4-hydroxy-4-methyl-4-yl)-acetic acid, 4,4'-bis (4-hydroxy-4-yl)-acetic acid (ODA), 4,4'-bis (4-hydroxy-4-yl)-acetic acid anhydrous (6FBPDA)-bis (4-hydroxy-4-yl) acetic acid in the presence of bis (4-hydroxy-4-yl) acetic acid at 80℃ for 4 hours and 180℃ for 1.5 hours The solution inhibitor (S-DNQ) is added to the photosensitive medium, the wavelength of 365 and the i-line (exposure 100mJ/cm^2) are exposed to light, and the industrial specifications of the solution are displayed. The results are 10 and the amplitude of the solution is selected. Heat treatment at 350℃ for 2 hours was successful in removing the acid. This year, we have four kinds of knowledge base, six kinds of knowledge base, six kinds of knowledge base The number of particles obtained is 16,000 and 34,000 respectively. It's a good idea. The amount of acid introduced into the reaction mixture is determined by the following methods: removing the complete reaction mixture, synthesizing the reaction mixture, 2,2'-diamino acid (5-diamino acid), selecting the reaction mixture, 6-diamino acid, 4-diamino acid, and obtaining the reaction mixture. The dissolution rate of the solution is 38nm/s. The dissolution rate is appropriate. This is the result of S-DNQ enhancement, photosensitivity, 365nm light transmission, and photosensitivity. The heat of 350 ℃ was applied to confirm the complete removal of the acid.

项目成果

期刊论文数量(3)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
New positive-type photosensitive polyimide having sulfo groups
  • DOI:
    10.1016/s0032-3861(03)00636-0
  • 发表时间:
    2003-09
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.6
  • 作者:
    K. Morita;K. Ebara;Y. Shibasaki;M. Ueda;K. Goto;S. Tamai
  • 通讯作者:
    K. Morita;K. Ebara;Y. Shibasaki;M. Ueda;K. Goto;S. Tamai
New positive-type photosensitive polyimide having sulfo groups 2. Polyimides from 2,2'-oxy(or thio)bis(5-aminobenzenesulfonic acid), 4,4'-oxydianiline, and 4,4'-hexafluoropropylidene-bis(phthalic anhydride)
具有磺基的新型正型光敏聚酰亚胺2.由2,2-氧基(或硫代)双(5-氨基苯磺酸)、4,4-二氨基二苯胺和4,4-六氟亚丙基-双(邻苯二甲酸酐)制成的聚酰亚胺
K.Morita, K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda, K.Goto, S.Tamai: "New positive-type photosensitive polyimide having sulfo groups"Polymer. 44(20). 6235 (2003)
K.Morita、K.Ebara、Y.Shibasaki、M.Ueda、K.Goto、S.Tamai:“具有磺基的新型正型光敏聚酰亚胺”聚合物。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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