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ZnO films grown by electrochemical method with pulsed current on Si substrate for solar cell applications
用于太阳能电池应用的硅衬底上采用脉冲电流电化学方法生长的 ZnO 薄膜
基本信息
- 批准号：18550181
- 负责人：
- 金额：$ 2.71万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2006
- 资助国家：日本
- 起止时间：2006 至 2008
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
本研究では、まず金属基板上で電気化学堆積法による酸化亜鉛薄膜の成長条件を詳細に検討した。また電気伝導特性評価のため、極薄の酸化亜鉛上に成長させた。供給する電流をパルス化することで伝導特性が変化した。この原因として溶液中での再溶解による欠陥生成の抑制が考えられる。これらの結果を基に成長条件を検討し、(100)および(111)Si基板上に多結晶酸化亜鉛薄膜を得ることに成功した。
在这项研究中，我们首先通过对金属底物的电化学沉积详细研究了氧化锌薄膜的生长条件。此外，为了评估电导率，该膜在极薄的氧化锌上生长。传导特性通过脉冲所提供的电流更改。这可能是由于抑制缺陷形成而导致的，这是通过在溶液中重新溶解的。基于这些结果，研究了生长条件，并在（100）和（111）SI底物上成功获得了多晶锌氧化薄膜。
项目成果
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科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
ZnO thin films epitaxially grown by electrochemical deposition method with constant current
- DOI：10.1016/j.tsf.2008.09.006
- 发表时间：2008-12
- 期刊：
- 影响因子：2.1
- 作者：A. Ashida;Akio Fujita;Y. Shim;K. Wakita;A. Nakahira
- 通讯作者：A. Ashida;Akio Fujita;Y. Shim;K. Wakita;A. Nakahira
電気化学的堆積法による多結晶Au基板上ZnO薄膜の結晶形態制御
电化学沉积法控制多晶金基片上 ZnO 薄膜的晶体形貌
- DOI：
- 发表时间：2008
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：芦田淳;藤田章雄;先山晴香;吉村武;藤村紀文;中平敦
- 通讯作者：中平敦
ZnO Thin Films Prepared by Electrochemical Deposition Method with Pulsed Electrolytic Current
脉冲电解电流电化学沉积法制备ZnO薄膜
- DOI：
- 发表时间：2007
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：A. Ashida;T. Okuma and T. Nagata
- 通讯作者：T. Okuma and T. Nagata
電気化学的堆積法によるPt (111)/sapphire(0001)上ZnOエピタキシャル薄膜の結晶形態制御
电化学沉积法控制 Pt(111)/蓝宝石(0001)上 ZnO 外延薄膜的晶体形貌
- DOI：
- 发表时间：2008
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：先山晴香;能津直哉;芦田淳;益子慶一郎;吉村武;藤村紀文
- 通讯作者：藤村紀文
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