Studies on the Hybrid Simulation System of Molecular Dynamics and Monte Carlo Methods for Electrodeposition
电沉积分子动力学与蒙特卡罗方法混合模拟系统的研究
基本信息
- 批准号:18560059
- 负责人:
- 金额:$ 2.46万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2008
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
分子スケールでのめっきの新しいシミュレーション法として分子動力学法とモンテカルロ法を統合した方法を開発し、表面処理分野に必要なめっきのシミュレーションシステムを構築した。このシステムを用いて、溶液中の添加剤の作用を解析し、添加剤の平滑作用と孔埋め込みへの影響について多くの知見を得た。さらに、めっきによるLSI配線作成の動的モンテカルロ計算のプログラムを開発し、欠陥を含まない配線作成に最適な添加剤の条件の探索を可能とした。
Molecular ス ケ ー ル で の め っ き の new し い シ ミ ュ レ ー シ ョ ン method と し て molecular dynamics method と モ ン テ カ ル ロ integration method を し た method を open 発 し, surface 処 eset に necessary な め っ き の シ ミ ュ レ ー シ ョ ン シ ス テ ム を build し た. こ の シ ス テ ム を with い て, solution の add tonic の を analytic し, add tonic の smoothing と hole buried め 込 み へ の influence に つ い て more く の knowledge を た. さ ら に, め っ き に よ る LSI wiring done の moving モ ン テ カ ル ロ computing の プ ロ グ ラ ム を open 発 し, owe 陥 を containing ま な い wiring done に optimum な add tonic の の conditions may explore を と し た.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
電気的析出における抑制作用を持つ添加剤の効果:分子動力学法とモンテカルロ法の統合シミュレーション
抑制添加剂对电沉积的影响:分子动力学和蒙特卡罗方法的集成模拟
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:金子豊;西村修一;樋渡保秋;小原勝彦;浅富士夫;金子豊
- 通讯作者:金子豊
Monte Carlo and Molecular Dynamics Studies of the Effects of Additives in Electrodeposition
电镀添加剂影响的蒙特卡罗和分子动力学研究
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Kaneko;Y. Hiwatari;K. Ohara and F. Asa
- 通讯作者:K. Ohara and F. Asa
めっきによるLSI配線作成における添加剤の効果と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション-
电镀 LSI 布线中添加剂和嵌入性的影响 - 动态蒙特卡罗模拟 -
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:金子豊;樋渡保秋;小原勝彦;浅富士夫;金子豊
- 通讯作者:金子豊
電気銅めっきによる孔埋め込みにおける塩化物イオンの効果-分子シミュレーションによるアプローチ-
氯离子对电解镀铜孔填充的影响-分子模拟方法-
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:金子豊;樋渡保秋;小原勝彦;浅富士夫;金子豊
- 通讯作者:金子豊
ビアフィリングにおける添加剤の相互作用と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション-
通孔填充中的附加相互作用和嵌入性 - 动态蒙特卡罗模拟 -
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:金子豊;樋渡保秋;小原勝彦;浅富士夫
- 通讯作者:浅富士夫
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