グラフォエピタキシーによる有機薄膜の面内配向制御と電界効果トランジスタへの応用
グラフォエピタキシーによる有機薄膜の面内配向制御と電界効果トランジスタへの応用
批准号:
18860020
负责人:
池田 進
金额:
$1.78万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007
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本年度は、前年度に見出したグラフォエピタキシーによる有機半導体薄膜の面内配向制御技術を実際の電界効果トランジスタ(FET)に応用する試みを行った。有機半導体材料にはα-sexithiophene(6T)を用い、電子線リソグラフィーによって人工周期溝構造を形成した熱酸化シリコン基板表面に6Tを真空蒸着法によって成膜した。蒸着前に基板表面をUV/オゾン処理(親水化)ならびにHMDS処理(疎水化)して表面状態を変えることにより、6Tの結晶格子のb軸が人工溝に対して平行になる場合と垂直になる場合を作り分ける、すなわち面内配向を制御し、それによって面内の選択配向方位が90°異なる2種類のFETデバイスを作製した。グラフォエピタキシーによって面内配向制御した6TのFETデバイスはどちらも高ドレイン電圧において飽和領域が現れる一般的な出力特性を示し、このようにして作製した有機FETが正常に動作することを実証した。しかしながら、平坦基板を用いた6TのFET(薄膜の面内方位はランダム)のFET特性と比較すると移動度が小さく、これはグラフォエピタキシャル成長した薄膜ではグレインが存在しない未被覆の部分が多く、電気伝導経路の連結性が悪いためであることが判明した。これに対し、グラフォエピタキシーによって方位が揃って連結した6Tグレインの1次元鎖中の電気伝導特性を導電性カンチレバーを用いた接触型原子間力顕微鏡で測定したところ、鎖状連結構造中では伝導特性が良好であった。これは方位の揃ったグレイン間の粒界抵抗が小さいことを意味する。したがって、グラフォエピタキシャル成長した薄膜の基板被覆率を高め、それぞれ孤立してしまう傾向にあるグレイン連結構造同士を更に連結できれば、FET特性を改善できることが示唆された。
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有機グラフォエピタキシーにおける薄膜成長の初期過程
有机图形外延薄膜生长的初始过程
DOI:
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发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Awano, {K. Kasai}, T. Shibuya, and K. Sakaniwa, Susumu Ikeda, Susumu Ikeda, 池田 進, Susumu Ikeda, Susumu Ikeda, 池田 進, 池田 進]
通讯作者:
池田 進
Oriented Film Growth of Organic Semiconductor Sexithiophene on Artificial Periodic Grooves and Electrical Conduction Properties of the Films
有机半导体六噻吩在人工周期性沟槽上的定向薄膜生长及薄膜的导电性能
DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
Materials Research Society 2007 Fall Proceedings 1059E(出版予定掲載確定)
影响因子:
--
作者:
[T. Awano, {K. Kasai}, T. Shibuya, and K. Sakaniwa, Susumu Ikeda, Susumu Ikeda]
通讯作者:
Susumu Ikeda
アモルファス基板上における有機薄膜の面内配向制御:電界効果トランジスタへの応用に向けて
非晶衬底上有机薄膜的面内取向控制:面向场效应晶体管的应用
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
真空 50(印刷中掲載確定)
影响因子:
--
作者:
[T. Awano, {K. Kasai}, T. Shibuya, and K. Sakaniwa, Susumu Ikeda, Susumu Ikeda, 池田 進]
通讯作者:
池田 進
Graphoepitaxy of sexithiophene on thermally-oxidized silicon surface with artificial periodic grooves
六噻吩在人工周期性沟槽热氧化硅表面的图形外延
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
Applied Physics Letters 88
影响因子:
--
作者:
[S. Ikeda, K Saiki, K. Tsutsui, T. Edura, Y. Wada, H. Miyazoe, K. Terashima, K. Inaba, T. Mitsunaga, and T. Shimada]
通讯作者:
and T. Shimada
DOI:
10.1063/1.2913180
发表时间:
2008-04-15
期刊:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子:
3.2
作者:
[Ikeda, Susumu, Saiki, Koichiro, Shimada, Toshihiro]
通讯作者:
Shimada, Toshihiro
共 7 条
Comprehensive molecular dynamics simulations to reproduce the whole processes of nucleation and growth of organic semiconductor thin films
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批准号:21K05205
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.75万
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财政年份:2021
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负责人:池田 進
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依托单位:
珪酸塩部分溶融系における界面の構造と物性の解析
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批准号:00J08525
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2000
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负责人:池田 進
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依托单位:
物質中水素の動的構造と局所構造の研究
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批准号:11211203
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$39.81万
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财政年份:1999
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负责人:池田 進
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依托单位:
動的な場における火成岩組織形成過程の実験的研究
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批准号:97J07812
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1998
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负责人:池田 進
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依托单位:
簡易技術でダイヤモンドを作る
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批准号:05914027
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (B)
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资助金额:$0.13万
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财政年份:1993
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负责人:池田 進
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依托单位:
中性子散乱による物質中の水質の波動関数の研究
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批准号:03640325
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1991
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负责人:池田 進
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依托单位:
中性子散乱による酸化物超伝導体中の銅原子の振動モ-ドの研究
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批准号:01540285
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1989
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负责人:池田 進
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依托单位:
急冷合金の非平衡状態の研究
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批准号:56740134
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.54万
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财政年份:1981
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负责人:池田 進
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依托单位:
大正末期・昭和前期における日本の教育のナショナリズム化過程の総合研究
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批准号:X00050----931058
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项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1974
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负责人:池田 進
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依托单位:
大正期教育の総合研究
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批准号:X46050------1062
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项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1971
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负责人:池田 進
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依托单位:
海外基金