Fabrication of highly ordered nanoporous silicons by direct nanoimprint and their application for Li ion battery anode

直接纳米压印制备高度有序的纳米多孔硅及其在锂离子电池负极中的应用

基本信息

  • 批准号:
    19550180
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

突起が規則配列したSiC製のモールドを用いたダイレクトナノインプリント, 或いは規則細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナをマスクとしたドライエッチングによりSi表面に規則的な窪み配列を形成し, これを電解エッチングすることにより高密度高規則配列のナノポーラスシリコンを形成した. これを電極としてリチウムイオンに基づく充放電特性を測定したところ, 細孔周期200nmに対して, 100nmでは充放電の繰り返しによる細孔径状の歪みが抑えられることがわかった.
Protuberant が rules with column し た SiC system の モ ー ル ド を with い た ダ イ レ ク ト ナ ノ イ ン プ リ ン ト, or い は rules pores with column を have す る anode acidification ポ ー ラ ス ア ル ミ ナ を マ ス ク と し た ド ラ イ エ ッ チ ン グ に よ り Si surface な depression み に rules with column を し formation, こ れ を electrolytic エ ッ チ ン グ す る こ と に よ り rules of high density with column の ナ ノ ポ ー ラ ス シ リ コ ン を form し た. こ れ を electrode と し て リ チ ウ ム イ オ ン に base づ く determination of charging and discharging characteristics を し た と こ ろ, fine mesh cycle 200 nm に し seaborne て, 100nmで charge and discharge <s:1> return <s:1> による fine-pore <s:1> distortion みが suppression えられる <s:1> とがわ とがわ った った.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Alトンネルエッチングにおけるピット位置精密制御と機能化
铝隧道蚀刻中的精确凹坑位置控制和功能化
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    益田秀樹;福島達郎;西尾和之
  • 通讯作者:
    西尾和之
アルミニウム電解コンデンサ用Al箔のトンネルピット配列の制御
铝电解电容器铝箔隧道凹坑排列控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福島達郎;武田彬史;西尾和之;益田秀樹
  • 通讯作者:
    益田秀樹
Fabrication of Ideally Ordered Anodic Porous Alumina with Large Area by Vacuum Deposition of Al onto Mold
模具真空沉积铝制备大面积理想有序阳极多孔氧化铝
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K.Nishio;T. Yanagishita;S. Hatakeyama;M. Maegawa;and H. Masuda
  • 通讯作者:
    and H. Masuda
Fabrication of Site-Controlled Tunnel Pits by Electrochemical Etching of Al
铝电化学蚀刻法制作定点隧道坑
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Nishio;T. Fukushima;and H. Masuda
  • 通讯作者:
    and H. Masuda
Alトンネルエッチングの位置制御とピット成長挙動
铝隧道蚀刻的位置控制和凹坑生长行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福島達郎;西尾和之;益田秀樹
  • 通讯作者:
    益田秀樹
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  • 资助金额:
    $ 3万
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