Relationship between Nano-topology and Corrosion Resistance of Metallic Thin Films Prepared by Ion-Beam-Sputter Deposition Method

离子束溅射沉积法制备金属薄膜的纳米拓扑结构与耐腐蚀性能的关系

• 批准号: 19560718
• 负责人: AKAO Noboru
• 金额: $ 3万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19560718/
• 关键词: 薄膜材料; 表面形態; 薄膜組織; スパッタ蒸着法; イオンビームアシスト堆積法; 耐食性; 不働態皮膜; ナノメータスケール

バルク材料のマクロ的な表面粗さと耐食性の関係と同様に, 薄膜材料であってもナノスケールオーダーで凹凸の小さいものは耐食性が良好であり, 凹凸の大きいものは耐食性が低く,作製方法ばかりではなく薄膜の表面形態により耐食性が変化すると考えられる. 本研究の目的は, 薄膜材料の耐食性に影響を与える組成や組織以外の因子を検討するために, ナノメータスケールで表面状態の異なる試料や組織の規定された試料をイオンビームスパッタ蒸着法もしくはイオンビームアシスト堆積法により作製し, 薄膜材料の微視的な表面性状や薄膜組織と耐食性の関係について定量的かつ系統的に検討することとした.本研究では, 微視的に表面性状の異なる模擬試料を作製するために, デュアルイオンビームスパッタ蒸着装置を用いて, スパッタ蒸発させる被スパッタ粒子と, アシストイオンソースの物理的パラメータを変更することで各種の性状を有する試料を作製した. 作製した試料について, 薄膜の結晶構造・組織の評価, 薄膜表面および表面皮膜下における原子および化学種の化学結合状態の解析を行い, 不働態皮膜やその下の薄膜素地の原子および化学種の化学結合状態について検討した.

The relationship between the surface roughness and food resistance of the film material is similar. The film material has good food resistance and the surface roughness has low food resistance. The preparation method is different. The purpose of this study is to investigate the influence of factors other than composition on the food resistance of thin film materials, and to determine the different surface states and tissues of the samples. Weishi app of thin film materials: surface properties, tissue and food resistance In this study, simulation samples of different surface properties of Weishi app were prepared and used in the evaporation device, and various properties of samples were prepared. Preparation of samples, evaluation of crystalline structure and microstructure of thin films, analysis of chemical binding states of atomic and chemical species on the surface of thin films and under the surface of thin films, analysis of chemical binding states of atomic and chemical species under the surface of thin films and under the surface of thin films