The formation of μ-TAS by electropolymerization of conducting polymer into porous silicon
The formation of μ-TAS by electropolymerization of conducting polymer into porous silicon
导电聚合物电聚合成多孔硅形成μ-TAS
批准号：
19850012
负责人：
FUKAMI Kazuhiro
金额：
$1.76万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2008
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英文摘要
多孔質シリコンを電極として導電性高分子を電解重合により充填することにより、ポリピロールのナノファイバー、マイクロチューブの作製に成功した。シリコンの多孔質化と孔内へのポリピロールの電解重合を繰り返すことで、ポリピロール被服多孔質シリコンの多層膜作製に成功した。多孔質シリコン中に作製したポリピロール微細構造を電位印加により駆動するには裸の多孔質シリコン電極を金属で被覆する必要があることが分かり、水溶液中で比較的安定なCu, Pt, Au, Pdの電析を多孔質シリコン電極に行った。孔の形状や電解液の種類、印加電位等により析出する金属の形態を制御できることが明らかになった。Auで被覆した多孔質シリコンにグルコースオキシダーゼを固定化し、活性を測定すると平坦なAu電極上での応答に比べて3倍近い感度を示すことを明らかにした。
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シリコンに形成したメソ孔への水溶液からの銅の電析
将铜从水溶液电沉积到硅中形成的介孔中
将铜从水溶液电沉积到硅中形成的介孔中
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[深見一弘, 田中祐輝, モハメドL. シュールー, 作花哲夫, 尾形幸生]
通讯作者：
尾形幸生
多孔質シリコンへのポリピロール電解重合による微細構造形成
多孔硅上聚吡咯电解聚合形成微结构
多孔硅上聚吡咯电解聚合形成微结构
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[深見一弘, 作花哲夫, 尾形幸生, 山内健, 坪川紀夫]
通讯作者：
坪川紀夫
p型シリコンに形成したマクロ孔への貴金属電析における置換めっきの影響
置换镀对贵金属电沉积到 p 型硅大孔中的影响
置换镀对贵金属电沉积到 p 型硅大孔中的影响
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[深見一弘, 松本翼, 小林克敏, 作花哲夫, 尾形幸生]
通讯作者：
尾形幸生
Tsubokawa, Filling of porous silicon with conductive polymer
Tsubokawa，用导电聚合物填充多孔硅
Tsubokawa，用导电聚合物填充多孔硅
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Fukami, T. Sakka, Y.H. Ogata, T. Yamauchi, N]
通讯作者：
N
DOI：
10.1016/j.electacta.2008.10.024
发表时间：
2009-03-01
期刊：
ELECTROCHIMICA ACTA
影响因子：
6.6
作者：
[Fukami, Kazuhiro, Tanaka, Yuki, Ogata, Yukio H.]
通讯作者：
Ogata, Yukio H.
共 17 条
Suppression of dendrite growth in electrochemical reactions based on modeling of growing interfaces
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批准号：23750239
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.25万
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财政年份：2011
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负责人：FUKAMI Kazuhiro
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依托单位：
海外基金