キセノン化合物とグラファイトとの相互作用に関する理論的研究
キセノン化合物とグラファイトとの相互作用に関する理論的研究
批准号:
08F08344
负责人:
武次 徹也
金额:
$1.11万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2010
中文摘要
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英文摘要
今年度は、キセノン原子とグラフェンとの相互作用を調べるため、DFT,MP2,CCSD(T)/cc-pVXZ(X=D,T,Q)レベルで吸着過程のポテンシャル曲線を求め、吸着構造におけるXe-表面距離と結合エネルギーを計算した。プログラムはGAMESSを用いた。グラフェン表面はクラスターモデルで近似し、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンのようにベンゼン環を7個まで含む系に対して計算を行った。クラスターモデルの大きさ依存性、計算レベル依存性、基底関数依存性を検討し、最終的な吸着状態の見積もりにはMP2/cc-pVTZを適用することとした。キセノンとグラファイト表面の相互作用に対しては基底関数重合せ誤差(BSSE)をcounterpoise法で補正し、hollow site, on-top site, bridge siteで計算を行ったところ、hollow siteへの吸着がもっとも安定であり、結合エネルギーは142.8meV、吸着距離は3.6Åであることが示された。Xe原子のグラファイト表面への吸着については実験的に吸着距離のみが報告されているが、本計算値は実験値とよく一致している。金属表面については、Xe原子はon-top siteに吸着することが知られているので、吸着状態における電子状態の性質を調べるために、XeFおよびXe-BeOについても同様の計算を行った。その結果、これら極性が高い分子については金属同様on-top siteにより安定に吸着することが示された。
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会议论文
Xenon adsorption on graphite : ab initio study
石墨上的氙吸附:从头算研究
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Sheng Li]
通讯作者:
Sheng Li
Ab Initio Study of Xe Adsorption on Graphene
石墨烯上 Xe 吸附的从头算研究
DOI:
10.1021/jp907861c
发表时间:
2010-02
期刊:
Journal of Physical Chemistry C
影响因子:
3.7
作者:
[Sheng, Li, Ono, Yuriko, Taketsugu, Tetsuya]
通讯作者:
Taketsugu, Tetsuya
希ガスマトリックス効果を考慮した凝縮系振動スペクトルシミュレーションの理論開発
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批准号:20655001
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2008
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负责人:武次 徹也
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依托单位:
水分子クラスターにおけるトンネル効果の理論的研究
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批准号:14740325
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2002
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负责人:武次 徹也
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依托单位:
内挿法によるabinitioポテンシャル曲面の生成とダイナミックスへの応用
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批准号:12042228
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2000
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负责人:武次 徹也
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依托单位:
多原子分子反応におけるトンネル経路モデルの開発
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批准号:10740266
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1998
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负责人:武次 徹也
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依托单位:
海外基金