The interface electronic structure between organic semiconductor and ferromagnetic metal surfaces : Towards organic spin-devices

有机半导体和铁磁金属表面之间的界面电子结构：走向有机自旋器件

• 批准号: 20550015
• 负责人: YOHIDA Hiroyuki
• 金额: $ 3.24万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20550015/
• 关键词: 有機半導体; 有機・金属界面; 電子構造; 角度分解X線光電子分光法; 多変量解析; 表面電気二重層; 分子性固体; 分極エネルギー; 角度分析X線光電子分光法; 埋もれた界面; 真空準位; target factor analysis; 変量解析; スピントロニクス; 薄膜構造

Interface electronic structures between organic semiconductor and metal surface have been studied using photoemission spectroscopy. In the course of the study, we have developed a novel analytical method that can examine the core energy levels of material as a function of depth. Using this new method, electronic structures of buried metal-organic interfaces are examined. Further, the method allow for the first time to quantitatively determine the energy level difference between the bulk and surface of organic solids to be about 0. 3 eV. The origins of the difference are also discussed.

利用光电子能谱研究了有机半导体与金属表面的界面电子结构。在研究过程中，我们开发了一种新颖的分析方法，可以检查材料的核心能级与深度的关系。利用这种新方法，掩埋金属-有机界面的电子结构进行了研究。此外，该方法允许第一次定量地确定有机固体的本体和表面之间的能级差为约0。3eV。本文还讨论了这种差异的根源。

项目成果

光電子分光法で調べる有機固体内部の電子準位

使用光电子能谱检查有机固体内的电子能级

• 发表时间: 2010
• 作者: 吉田弘幸、伊藤英輔、原正彦;佐藤直樹;Whee WonChin、Jin WookHan;吉田弘幸
• 通讯作者: 吉田弘幸

A New Experimental Techniqueto Examine Electronic Structure at Buried Interface of Organic/Metal Contacts

一种检查有机/金属接触埋入界面电子结构的新实验技术

• 发表时间: 2010
• 作者: 吉田弘幸;佐藤直樹
• 通讯作者: 佐藤直樹

有機固体中の表面とバルクの内殻準位のエネルギー差の起源

有机固体表面能级和块核能级之间能量差的起源

• 发表时间: 2011
• 作者: 吉田弘幸;伊藤英輔;原正彦;佐藤直樹
• 通讯作者: 佐藤直樹

A New Experimental Method for Depth Profiling Core Energy Levels : Application to the Electronic Structure of Buried Organic/Metal Interfaces

深度分析核心能级的新实验方法：应用于埋藏有机/金属界面的电子结构

• 发表时间: 2011
• 作者: Hiroyuki Yoshida;Eisuke Ito;Masahiko Hara;Naoki Sato
• 通讯作者: Naoki Sato

New Experimental Technique to Examine Electronic Structure at Buried Interfaces of Metal/Organic Contacts

检查金属/有机接触埋入界面电子结构的新实验技术

• 发表时间: 2010
• 作者: Hiroyuki Yoshida;Eisuke Ito;Masahiko Hara;Naoki Sato
• 通讯作者: Naoki Sato