A study on the origin of localized states in Si thin films by photothermal bending spectroscopy
A study on the origin of localized states in Si thin films by photothermal bending spectroscopy
光热弯曲光谱研究硅薄膜局域态的起源
批准号：
20560294
负责人：
YOSHIDA Norimitsu
金额：
$3.0万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2008
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2008 至 2010
中文摘要
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英文摘要
The origin of an optical absorption observed at 1.4eV by photothermal bending spectroscopy in Si thin films prepared near the transition region of deposition conditions from amorphous Si to crystalline phase has been studied. From experimental results that the absorption decreases by light illumination, it is concluded that the origin of the absorption could be Si crystallites with a grain size under 4nm.
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A study of absorption coefficient spectra in a-Si H films near the transition from amor phous to crystalline phase measured by resonant photothermal bending speetroscopy
共振光热弯曲光谱法研究a-Si H薄膜非晶态向晶态转变附近的吸收系数光谱
共振光热弯曲光谱法研究a-Si H薄膜非晶态向晶态转变附近的吸收系数光谱
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
Journal of Non-Crystalline Solids 354
影响因子：
--
作者：
[山口浩一, 角田直輝, 海津利行, 高橋正光, 藤川誠司, 山下馨, 池田正則,清水博文,高松弘行,迫田尚和, Norimitsu Yoshida]
通讯作者：
Norimitsu Yoshida
Preparations of P-and N-doped hydrogenated microcrystalline cubic silicon carbide films by VHF plasma enhanced chemical vapor deposition method for Si thin film solar cells
VHF等离子体增强化学气相沉积法制备P、N掺杂氢化微晶立方碳化硅薄膜用于硅薄膜太阳能电池
VHF等离子体增强化学气相沉积法制备P、N掺杂氢化微晶立方碳化硅薄膜用于硅薄膜太阳能电池
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
Physica Status Solidi (c) Vol.7, No.3-4
影响因子：
--
作者：
[Norimitsu Yoshida, Sho Terazawa, Atsuteru Takeuchi, Nobutaka Yoneyama, Tomo-o Morino, Zhao Jun, Hironori Natsuhara, Shuichi Nonomura]
通讯作者：
Shuichi Nonomura
Preparations of P- and N-doped hydrogenated microcrystalline cubic silicon carbide films by VHF plasma enhanced chemical vapor deposition method for Si thin film solar cells
VHF等离子体增强化学气相沉积法制备P、N掺杂氢化微晶立方碳化硅薄膜用于硅薄膜太阳能电池
VHF等离子体增强化学气相沉积法制备P、N掺杂氢化微晶立方碳化硅薄膜用于硅薄膜太阳能电池
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
Physica Status Solidi (c)
影响因子：
--
作者：
[Norimitsu Yoshida, Sho Terazawa, Atsuteru Takeuchi, Nobutaka Yoneyama, Tomo-o Morino, Zhao Jun, Hironori Natsuhara, Shuichi Nonomura]
通讯作者：
Shuichi Nonomura
DOI：
10.1016/j.jnoncrysol.2007.10.039
发表时间：
2008-05
期刊：
Journal of Non-crystalline Solids
影响因子：
3.5
作者：
[N. Yoshida;Y. Shimizu;T. Honda;Toshiaki Yokoi;S. Nonomura]
通讯作者：
N. Yoshida;Y. Shimizu;T. Honda;Toshiaki Yokoi;S. Nonomura
ホームページ等。
主页等
主页等
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
海外基金