Nano measuring technique (A02)

纳米测量技术（A02）

• 批准号: 5378531
• 金额: --
• 依托单位: Institut für Prozessmess- und Sensortechnik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Collaborative Research Centres
• 财政年份: 2002
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2001-12-31 至 2012-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5378531?language=en
• 关键词: Nano; measuring; technique; A02

Im Teilprojekt A2 sollen die wissenschaftlichen Grundlagen für interferenzoptische Längenund Winkelmesssysteme sowie für optische, taktile und Rastersonden-Mikrotastsysteme grundlegend weiterentwickelt werden. Die Schwerpunkte liegen in der Erforschung hochgenauer und hochstabiler miniaturisierter einstrahliger lichtwellenleitergekoppelter Planspiegel-Interferometer. Es sind die wissenschaftlich-technisch möglichen Grenzbereiche der Nanomesstechnik im Hinblick auf wichtige messtechnische Parameter, wie Messauflösungen bis 0,01 nm, Messbereiche bis 450 mm, Reproduzierbarkeit < 0,3 nm und Synchronität der Messachsen < 0,2 ns, auszuloten.

Im Teilprojekt A2 Sollen Die Sensenschaftlichen Grundlagen für Interferenzoptische Längenund WinkelMesssystem e Sowie für Optische，Taktitil and Rastersonden-Mikrotagie Grundterentwickelt Wickelt.他说：“我们用的是一台微型干涉仪。”在Hinblick auf wichtige Messtechnische参数，即Messauflösungen bis 0，01 nm，Messbereiche bis 450 mm，Reproduzierbarkeit&lt；0，3 nm and Synchronität der Messachsen&lt；0，2 ns，auzuloten的情况下，Sind die sind sind möglichen Grizbereiche der Nanomesstechnik im Hinblick auf wichtige Messtechnische参数。