A Study of Plasma Chemistry Involving Liquid

涉及液体的等离子体化学研究

• 批准号: 21540511
• 负责人: SHIRAFUJI Tatsuru
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Osaka City University (2010-2011)Nagoya University (2009)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21540511/
• 关键词: プラズマ化学; 水中プラズマ; 水浄化; プラズマ; 液体; 反応; シミュレーション; ラジカル; バリア; 放電; 誘電体; 環境; Ar; 水; OHラジカル

In order to establish scientific and technological foundation for materials processes using the plasmas generated in underwater bubbles, we have performed modeling and simulation of the plasma chemical reaction processes involving water and the bubble generation processes. Moreover, on the basis of these achievements, we have proposed a novel underwater plasma process using integrated micro bubbles, and proved its materials processing capability through methylene-blue-decolorization experiments.

为了使用水下气泡中产生的等离子体为材料过程建立科学和技术基础，我们对涉及水和气泡产生过程的等离子体化学反应过程进行了建模和模拟。此外，根据这些成就，我们提出了使用集成微气泡的新型水下血浆过程，并通过甲基蓝色颜色化实验证明了其材料处理能力。

项目成果

Water-repellent thin film deposition using a gas-liquid mixed-phase plasma jet

使用气液混合相等离子体射流沉积防水薄膜

• 发表时间: 2010
• 作者: T. Shirafuji;K. Asano;J. Hieda;N. Saito and O. Takai;T.Shirafuji;Y.Takahashi
• 通讯作者: Y.Takahashi

水が関与するプラズマ中の化学反応過程

等离子体中涉及水的化学反应过程

• 发表时间: 2009
• 作者: T. Shirafuji;K. Asano;J. Hieda;N. Saito and O. Takai;T.Shirafuji;Y.Takahashi;高橋嘉仁;T.Shirafuji;K.Denpoh;白藤立;白藤立
• 通讯作者: 白藤立

Semianalytical FEM model for RF sheaths in single-and dual-frequency capacitively coupled plasmas

单频和双频电容耦合等离子体中射频鞘的半解析有限元模型

• 发表时间: 2010
• 作者: T. Shirafuji;K. Asano;J. Hieda;N. Saito and O. Takai;T.Shirafuji;Y.Takahashi;高橋嘉仁;T.Shirafuji;K.Denpoh
• 通讯作者: K.Denpoh

Effects of solution plasmas on the structure of MWNTs

溶液等离子体对 MWNT 结构的影响

• 发表时间: 2011
• 作者: K.Denpoh;T.Shirafuji;T. Shirafuji;T.Shirafuji;白藤立;T.Shirafuji;T.Shirafuji;T.Shirafuji;T.Shirafuji
• 通讯作者: T.Shirafuji

Semianalytical finite element method model for radio frequency sheaths in single and dual-frequency capacitively coupled plasmas

单频和双频电容耦合等离子体中射频鞘层的半解析有限元法模型

• 发表时间: 2009
• 期刊: Jpn. J. Appl. Phys.
• 作者: T. Shirafuji;J. Hieda;O. Takai;N. Saito;T. Morita;O. Sakai and K. Tachibana;K.Denpoh;T.Shirafuji;白藤立;K. Denpoh and T. Shirafuji
• 通讯作者: K. Denpoh and T. Shirafuji