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Development of ZnO thermoelectric thin film with fine particle using plasma sputtering and plasma flow

Development of ZnO thermoelectric thin film with fine particle using plasma sputtering and plasma flow
利用等离子体溅射和等离子体流开发细颗粒 ZnO 热电薄膜
批准号:
21740401
负责人:
MISAWA Tatsuya
金额:
$1.83万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2010

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
为了实现高性能的热电薄膜材料,研究了放电等离子烧结过程中烧结试件内部结构控制的机理,并利用等离子体溅射和等离子流控技术研制了具有细小颗粒的氧化锌热电薄膜。
英文摘要
For the realization of the high-performance thermoelectric thin film materials, the study of mechanism of the internal construction control in sintered specimen on Spark Plasma Sintering process and development of ZnO thermoelectric thin film with fine particle using plasma sputtering and plasma flow were carried out.
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DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
Generation of ZnO film thermo-electric device for high efficient thermoelectric conversion of waste heat
  • 批准号:
    19740345
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $1.54万
  • 财政年份:
    2007
  • 负责人:
    MISAWA Tatsuya
  • 依托单位:
海外基金