High performance III-V MOSFETs using MOVPE selectively regrown source
使用 MOVPE 选择性再生源的高性能 III-V MOSFET
基本信息
- 批准号:21760253
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2009
- 资助国家:日本
- 起止时间:2009 至 2010
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
III-V high mobility channels are a promising technology for future logic applications. To enhance the current injection and reduce the series resistance, heavily doped source/drain structures were formed by MOVPE regrowth. The maximum drain current of 1.3 A/mm and transconductance of 0.8 S/mm were obtained for the regrown souce/drain MOSFET with the channel length of 170 nm. The results show that regrown source is an effective way to improve the drain current of III-V MOSFETs.
III-V高移动性通道是一种很有前途的未来逻辑应用技术。为了增强注入电流和降低串联电阻,通过MOVPE再生长形成了重掺杂的源漏结构。再生源极/漏极MOSFET的最大漏极电流为1.3 A/mm,跨导率为0.8 S/mm,沟道长度为170 nm。结果表明,再生源是提高III-V型mosfet漏极电流的有效途径。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
再成長ソースを有するアンドープチャネルMOSFET
具有再生源的未掺杂沟道 MOSFET
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:若林和也;金澤徹;斎藤尚史;寺尾良輔;田島智宣;宮本恭幸;古屋一仁
- 通讯作者:古屋一仁
再成長ソースを有するアンドーブチャネルInP/InGaAs MOSFETの電流特性
具有再生源的无掺杂沟道InP/InGaAs MOSFET的电流特性
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Akira Tsuchiya;Hidetoshi Onodera;若林和也
- 通讯作者:若林和也
MOVEP再成長n^+-ソースを有するIII-V族高移動度チャネルMOSFET
具有 MOVEP 再生 n^+ 源极的 III-V 高迁移率沟道 MOSFET
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:金澤徹;斎藤尚史;若林和也;寺尾良輔;田島智宣;池田俊介;宮本恭幸;古屋一仁
- 通讯作者:古屋一仁
Al_2O_3ゲート絶縁膜を用いたInP/InGaAsチャネルn-MOSFETの電気特性
使用Al_2O_3栅绝缘膜的InP/InGaAs沟道n-MOSFET的电特性
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:寺尾良輔;金澤徹;斎藤尚史;若林和也;池田俊介;宮本恭幸;古屋一仁
- 通讯作者:古屋一仁
InP/InGaAs-channel MOSFET with MOVPE Selective Regrown Source
具有 MOVPE 选择性再生源的 InP/InGaAs 沟道 MOSFET
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Naito AT;Sumida T;Nomura S;Liu ML;Higo T;Nakagawa A;Okada K;Sakai T;Hashimoto A;Hara Y;Shimizu I;Zhu W;Toko H;Katada A;Akazawa H;Oka T;Lee JK;Minamino T;Nagai T;Walsh K;Kikuchi A;Matsumoto M;Botto M;Shiojima I;Komuro I;T.Kanazawa
- 通讯作者:T.Kanazawa
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- 影响因子:0.5
- 作者:
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MIYAMOTO Yasuyuki
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