Development of ultra-low optical loss functional glass elements using corona charging treatment

利用电晕充电处理开发超低光学损耗功能玻璃元件

• 批准号: 21760572
• 负责人: SAKAI Daisuke
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Kitami Institute of Technology (2010-2011)National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (2009)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21760572/
• 关键词: 新機能材料; コロナ帯電; ガラス; 光損失抑制; 微細構造; 微細加工; コロナ帯電処理; 屈折率変調; 低光損失; 機能材料; 回折構造; アゾベンゼンポリマー; ポリスチレン微粒子; 自己組織化

We studied a refractive index modulation in glass using corona charging. Aim of this study is realization of the functional glass elements that inhibit the optical loss. Modulation of the refractive index depends on the contained amount of alkali metal ion in the glass. It was found that refractive index was degraded by corona charging treatment. The Optical loss was successfully inhibited using this technique. In the experiment to further improve efficiency, we have discovered the curious phenomenon that can form a relief structure on the surface corresponding to the micro pattern of corona charging treatment.

研究了电晕充电对玻璃折射率的调制作用。本研究的目的是实现抑制光损耗的功能玻璃元件。折射率的调制取决于玻璃中碱金属离子的含量。研究发现，电晕充电处理会降低薄膜的折射率。利用该技术成功地抑制了光损耗。在进一步提高效率的实验中，我们发现了一种奇怪的现象，即可以在表面上形成与电晕充电处理的微观图案相对应的浮雕结构。

项目成果

コロナ帯電処理を用いたガラスへの情報記録-フォトレジストの適用可能性検討と記録メカニズムの考察-

利用电晕充电处理在玻璃上记录信息-光刻胶适用性的考虑和记录机制的考虑-

• 发表时间: 2010
• 作者: 酒井大輔;内田江美;原田建治;茨田大輔;福田隆史
• 通讯作者: 福田隆史

Replicative Fabrication of Diffractive Structure from Self-Assembled Particles onto a Glass Substrate Using Corona-Charging Treatment

使用电晕充电处理在玻璃基板上复制自组装粒子的衍射结构

• 发表时间: 2010
• 期刊: Optical Review
• 影响因子: 1.2
• 作者: D.Sakai;D.Miho;K.Harada;D.Barada;T.Fukuda
• 通讯作者: T.Fukuda

ガラス基板上に蒸着した金薄膜の島状構造化と光学特性

玻璃基板上沉积的金薄膜的岛状结构和光学特性

• 发表时间: 2011
• 作者: 酒井大輔;原田建治;福田隆史
• 通讯作者: 福田隆史

Unique amplification method for diffraction efficiency of the grating recorded in a glass substrate by corona-charging treatment

通过电晕充电处理记录在玻璃基板上的光栅衍射效率的独特放大方法

• 发表时间: 2011
• 作者: 酒井大輔;福田隆史;内田江美;原田建治;茨田大輔
• 通讯作者: 茨田大輔

コロナ帯電によってガラス基板に記録されたホログラムの耐電場性評価

电晕充电玻璃基板上记录的全息图的电场电阻评估

• 发表时间: 2010
• 作者: 蓑口諒平;山口武伸;酒井大輔;福田隆史;原田建治
• 通讯作者: 原田建治