课题基金 / 基金详情

有機保護膜フリー金属・半導体ナノ粒子を活用した新規ナノ機能材料・デバイスの創製

有機保護膜フリー金属・半導体ナノ粒子を活用した新規ナノ機能材料・デバイスの創製
使用无有机保护膜的金属和半导体纳米颗粒创建新型纳米功能材料和器件
批准号:
21651052
负责人:
川崎 三津夫
金额:
$2.11万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 --

项目摘要

项目成果

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金属・半導体ナノ粒子は、近年世界的に研究規模が拡大しているナノテクノロジーにおける基幹的な材料であり、その新しい合成法や応用についての研究も飛躍的に増加している。レーザー誘起非平衡反応場を活用することによりその合成が実現した、有機保護膜が不要という画期的な金属・半導体ナノ粒子を、より高次のナノ機能材料・デバイス創製のための挑戦的な新材料と捉え、以下に記した研究を実施した。1)有機保護膜フリー銀ナノ粒子の活用1-1)反応触媒活性:該銀ナノ粒子を、粒径が数nm以下のさらに微細な銀ナノ粒子に変換するための酸化的ダウンサイジングの手法を開発し、これにより得られた超微細銀ナノ粒子が期待された有意な触媒活性を有することを確かめた。1-2)分子ケイ光増強機能:粒径がサブミクロン領域(100nm以上)に達する大型でかっ平面性の高い銀粒子の表面プラズモンは、近接する分子のケイ光を強く増強する機能を有する。このような高い機能性を有した銀超微粒子が、該銀ナノ粒子を利用して簡単な手法で容易に作成できることがわかった。1-3)増強EL素子:上記の銀超微粒子を有機EL素子に組み込んだ新規な素子を設計し、期待したとおりの発光増強機能を確かめた。2)有機保護膜フリー銅ナノ粒子・酸化第一銅ナノ粒子の活用機保護膜フリーで、酸化レベルが制御された銅ナノ粒子が高濃度に分散したインクを作成し、その塗布膜に対する新規な還元処理法を開発した。これにより、300℃以下の温度で、バルク銅に匹敵する高い導電性を有した金属膜が得られることが明らかになった。プリンタブルエレクトロニクスの実現に資する重要な成果である
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
レーザー照射による保護膜不要の金属ナノ粒子の新製法と応用展開
利用激光照射无需保护膜的金属纳米颗粒新制造方法及应用开发
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [水上祐輔, 堀口和孝, 黒川修, 酒井明, S.Matsushita, 赤木和夫, Y.Xu, M.Goh, T.Yamashita, 赤木和夫, T.Yamashita, K.Jang, 岡田達弘, J.Takeda, 川崎三津夫]
通讯作者: 川崎三津夫
銅ナノ粒子の作製とその特性
纳米铜的制备及其性能
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [和田仁, 杉本将之, 川崎三津夫]
通讯作者: 川崎三津夫
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [杉本将之, 和田仁, 鴨川弘宣, 川崎三津夫]
通讯作者: 川崎三津夫
サブミクロン銀超微粒子集合膜による遠隔作用型蛍光増強の発現とその機構
亚微米银超微粒子组装膜远程荧光增强的表达及机制
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [西下, 川崎三津夫]
通讯作者: 川崎三津夫
二次元イオン結晶の構造と物性
  • 批准号:
    11875191
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $1.34万
  • 财政年份:
    1999
  • 负责人:
    川崎 三津夫
  • 依托单位:
高配向貴金属薄膜上に構築した高秩序色素分子集合体の構造と光物性
  • 批准号:
    07650991
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.41万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    川崎 三津夫
  • 依托单位:
SiO_2超薄膜を介したSi/Ag^+系の電子移動還元反応に関する研究
  • 批准号:
    62750758
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1987
  • 负责人:
    川崎 三津夫
  • 依托单位:
光CVD法による非晶質シリコン薄膜の形成初期過程に関する研究
  • 批准号:
    61750788
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1986
  • 负责人:
    川崎 三津夫
  • 依托单位:
海外基金