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High speed deposition of zinc oxide film using atmospheric pressure glow discharge
利用常压辉光放电高速沉积氧化锌薄膜
基本信息
- 批准号：22560113
- 负责人：
- 金额：$ 2.75万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2010
- 资助国家：日本
- 起止时间：2010 至 2012
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
Transparent conductive thin films used for a liquid crystal display or a solar cell etc. have to fabricated in large area with low cost system. Therefore, I generated coldplasma under atmospheric pressure, and developed the deposition system of Zinc oxide films. For fabricating thin films uniformly in large area, slit width was expanded into 100 mm. The uniform films were fabricated. The subject remained about improvement in deposition rate.
用于液晶显示屏或太阳能电池等的透明导电薄膜必须在大面积的较低面积中制造，具有低成本系统。因此，我在大气压力下产生了冷倍率，并开发了氧化锌膜的沉积系统。为了在大面积均匀地制造薄膜，将狭缝宽度扩展到100毫米。统一的电影是制造的。该受试者仍然是关于沉积率的提高。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Fabrication of ZnO:Al Thin Films by Using an Atmospheric Pressure Cold Plasma Generator
使用大气压冷等离子体发生器制备 ZnO:Al 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2010
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Akiou KAWAGUCHI ; Yoshifumi Suzaki
- 通讯作者：Yoshifumi Suzaki
Effect of substrate on ZnO thin film fabrication by using an atmospheric pressure cold plasma generator
基底对常压冷等离子体发生器制备ZnO薄膜的影响
- DOI：
- 发表时间：
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：W. Hang;L. Zhou;J. Shimizu;T. Yamamoto;J. Yuan;Mina Kim
- 通讯作者：Mina Kim
Fabrication of a Transparent Antifauling Thin Film Using an Atmospheric Pressure Cold Plasma Deposition System
使用大气压冷等离子体沉积系统制备透明防故障薄膜
- DOI：
- 发表时间：
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Akiou KAWAGUCHI ; Yoshifumi Suzaki;岩田 弘;須崎嘉文;Koji YAMAUCHI
- 通讯作者：Koji YAMAUCHI
光ファイバーＦＢＧを用いた電流センサーの開発
使用光纤FBG的电流传感器的开发
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：須崎 嘉文;牧野 和史;山口 堅三;丸 浩一;岩田 弘;今岡 功
- 通讯作者：今岡 功
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