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Low-temperature formation and defect control of high-k dielectrics by PA-ALD

Low-temperature formation and defect control of high-k dielectrics by PA-ALD
PA-ALD 高 k 电介质的低温形成和缺陷控制
批准号：
22560307
负责人：
FUKUDA Yukio
金额：
$2.75万
依托单位：
Tokyo University of Science, Suwa
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2010
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2010 至 2012
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22560307/
关键词：
誘電体薄膜表面・界面物性超薄膜MOS 構造プラズマ酸化原子層堆積 法酸化ハフニウム酸化アルミニウムMOS構造原子層堆積誘電体物性MIS構造プラズマ成膜

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项目成果

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In the present research subject, we have investigated the atomic layer depositions of high-k metal oxides on silicon and germanium substrates using microwave-generated atomic oxygen as an oxidant. We have found that silicates and germanates of high-k metals are spontaneously formed on silicon and germanium substrates, respectively, at low temperatures lower than 300℃.
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会议论文
TrapdensityofGeNx/Geinterfacefabricatedbyelectroncyclotronresonanceplasmanitridation
电子回旋共振等离子体氮化制备GeNx/Ge界面的陷阱密度
DOI： 10.1063/1.3611581
发表时间： 2011
期刊： Appl.Phys.Lett.
影响因子： --
作者： [W. Li, E. Meng, D. Ishikawa, K. Nakane, S. Oda, T. Matsushita, Y.Fukuda,Y.Otani,T.Sato,H.Toyota,001100203040andT.Ono, Y.Fukuda,Y.Otani,H.Toyota,andT.Ono]
通讯作者： Y.Fukuda,Y.Otani,H.Toyota,andT.Ono
マイクロ波生成リモートプラズマ支援ALD法によるSi基板上へのHfSixOy薄膜の低温形成
微波远程等离子体辅助ALD法在Si衬底上低温形成HfSixOy薄膜
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [石崎博基, 飯田真正, 王谷洋平, 山本千綾, 山中淳二, 佐藤哲也, 福田幸夫]
通讯作者： 福田幸夫
マイクロ波リモートプラズマを用いた原子層堆積法によるGe基板上へのAl2O3薄膜の直接形成
微波远程等离子体原子层沉积法在Ge基底上直接形成Al2O3薄膜
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [灘真輝, 御厨雄大, 齋藤勝彦, 田中徹, 西尾光弘, 郭其新, 花田毅広]
通讯作者： 花田毅広
InsituformationofhafniumsilicateonSisubstratebyatomiclayerdepositionwithtetrakis(dimethylamino)hafniumandmicrowave-generatedatomicoxygen
用四(二甲氨基)铪和微波产生的原子氧进行原子层沉积在硅衬底上原位形成硅酸铪
DOI： --
发表时间： 2013
期刊：
影响因子： --
作者： [W. Li, E. C. Meng, T. Matsushita, S. Oda, D. Ishikawa, K. Nakane, H. Tatsuoka, H.Ishizaki,Y.Otani,C.Yamamoto,J.Yamanaka,T.Sato,T.Takamatsu,andY.Fukuda]
通讯作者： H.Ishizaki,Y.Otani,C.Yamamoto,J.Yamanaka,T.Sato,T.Takamatsu,andY.Fukuda
共 15 条
    Cnostruction of an aparatus for Production and Detection of Axions by Using Optical Cavities
    • 批准号：
      07554076
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $1.15万
    • 财政年份：
      1995
    • 负责人：
      FUKUDA Yukio
    • 依托单位：
      Kobe University
    Dynamics of Spectroscopic Relaxation Processes in Noise Fields
    • 批准号：
      07454095
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $4.99万
    • 财政年份：
      1995
    • 负责人：
      FUKUDA Yukio
    • 依托单位：
      Kobe University
    Dynamics of Spectroscopic Relaxation Processes in Noise Fields
    • 批准号：
      02640292
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.6万
    • 财政年份：
      1990
    • 负责人：
      FUKUDA Yukio
    • 依托单位：
      College of Liberal Arts, Kobe University
    海外基金