Enhancement of liquid cluster ion beam intensity for application in semiconductor industry

增强液体团簇离子束强度在半导体工业中的应用

• 批准号: 22560329
• 负责人: RYUTO Hiromichi
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22560329/
• 关键词: 微細プロセス技術; 液体クラスター; シリコン; アセトン; 半導体基板加工; 酸化膜形成; エタノール; 照射損傷; 半導体加工; クラスター

The liquid cluster ion beam apparatus was modified to realize applications of the liquid cluster ion beam technique in the industry such as the semiconductor industry. An intense water cluster ion beam with a beam current density of approximately 3 μA/cm2was obtained. The sputtering yields of silicon and PMMA induced by water cluster ions were large. The modification of the apparatus enabled the usage of acetone as the cluster source material. An acetone cluster ion beam was produced without using helium as a support gas. The sputtering yield of silicon induced by the irradiation of an acetone cluster ion beam was large.

为了实现液体团簇离子束技术在半导体工业等产业中的应用，对液体团簇离子束装置进行了改造。获得了束流密度约为3 μA/cm ~ 2的强流水团簇离子束。水团簇离子对硅和PMMA的溅射产额较大。该装置的改进使得能够使用丙酮作为簇源材料。在不使用氦气作为支持气体的情况下产生丙酮团簇离子束。丙酮团簇离子束辐照引起的硅的溅射产额很大。

项目成果

多原子分子イオンビームによるシリコン表面照射効果

多原子分子离子束硅表面辐照效果

• 发表时间: 2010
• 期刊: 信学技報IEICE Technical Report
• 作者: Mineo Kaneko;Li Jiang;S.Sasaki;竹内光明
• 通讯作者: 竹内光明

Improved set-up to reveal cluster ion beam induced luminescence

改进的设置以揭示簇离子束诱导发光

• 发表时间: 2012
• 作者: Kentaro Kukita;Indra Nur Adisusilo;and Yoshinari Kamakura;Ying Jiang;Francesco Musumeci
• 通讯作者: Francesco Musumeci

Preliminary Results on Cluster Ion Beam Induced Luminescence (C. I. B. I. L.)

簇离子束诱导发光 (C. I. B. I. L.) 的初步结果

• 发表时间: 2012
• 作者: 李健;金子峰雄;山田誠,小山長規,勝山豊,渋谷隆;Francesco Musumeci
• 通讯作者: Francesco Musumeci

アセトンクラスターの生成

丙酮簇的产生

• 发表时间: 2011
• 作者: Masataka Ohira;Zhewang Ma;Masayuki Kato;糸崎俊介
• 通讯作者: 糸崎俊介

Polyatomic Ion Source with Ionic Liquid for Shallow Implantation

用于浅植入的离子液体多原子离子源

• 发表时间: 2010
• 作者: 西本昌彦;G.H.Takaoka;T.Kawai;井上恵介,金子峰雄;山本勝之他;蔵徹郎,藤永清久;米沢友里子他;西本昌彦;G.H.Takaoka;川村一代他;糸崎俊介;川村 一代;Masahiko Nishimoto;住友 祐馬;市橋岳;西本昌彦;早川達也;西本昌彦;向井寛;山本勝之;戸村公亮;H.Ryuto;P.Sommani;中尾健志;川村 一代;M.Takeuchi
• 通讯作者: M.Takeuchi