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Large-area stacked silicon photonics based on amorphous Si

Large-area stacked silicon photonics based on amorphous Si
基于非晶硅的大面积堆叠硅光子学
批准号:
23560036
负责人:
KATSUYAMA TOSHIO
金额:
$3.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011-04-28 至 2015-03-31

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通讯作者: 和田恭雄
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