Stable Polyradicals of the Heavy Group 14 Elements with Oxidation-Reduction System and Its Application

氧化还原体系重14族元素的稳定多自由基及其应用

• 批准号: 23655027
• 负责人: SEKIGUCHI Akira
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: University of Tsukuba
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23655027/
• 关键词: 安定ラジカル; EPRスペクトル; 高スピン分子; 酸化還元機能; 電子状態; 有機高周期典型元素; X線結晶構造解析; 常磁性分子

The stable free radicals on the heavier group 14 elements (Si, Ge, Sn) were studied by UV-photoelectron spectroscopy and cyclic voltammetry, in order to determine their redox properties. Isomeric para- and meta-disilaquinodimethanes were synthesized and characterized; the para-isomer was shown to possess a singlet ground state with a closed-shell quinoid form, whereas the meta-isomer was shown to manifest a robust triplet ground state.

用紫外光电子能谱和循环伏安法研究了重14族元素（Si, Ge, Sn）上的稳定自由基，以确定其氧化还原性质。合成了对二萘醌和间二萘醌异构体并对其进行了表征；对异构体具有单重态基态和闭壳类醌形式，而间异构体显示出强大的三重态基态。

项目成果

Synthesis and Structure of First Isolable Oligo(silyl radical)s Bridged by a Benzene Ring.

第一个可分离的苯环桥接低聚（甲硅烷基）的合成和结构。

• 发表时间: 2011
• 作者: Fumitaka Ishiwari;Kazuko Nakazono;Yasuhito Koyama;Toshikazu Takata;T. Nozawa
• 通讯作者: T. Nozawa

シリルラジカル集積分子の合 成、構造、及び性質

硅自由基积累分子的合成、结构和性能

• 发表时间: 2011
• 作者: Fumitaka Ishiwari;Kei-ichiro Fukasawa;Takashi Sato;Kazuko Nakazono;Yasuhito Koyama;Toshikazu Takata;横井 寛生,後藤 澄光,廣戸 聡,忍久保 洋;野澤 竹志
• 通讯作者: 野澤 竹志

低配位有機ケイ素化合物の創製研究と機能化

低配位有机硅化合物的合成研究及功能化

• 发表时间: 2012
• 作者: Hideaki Miyake;Naokazu Kano;Takayuki Kawashima;関口章
• 通讯作者: 関口章

A Heavy Analog of Vinyl Cation: Synthesis of an NHC-Stabilized Disilenyl Cation

乙烯基阳离子的重类似物：NHC 稳定的二硅烯基阳离子的合成

• 发表时间: 2012
• 作者: 藤田雅大;斎藤雅一;T. Kaneko;A. Sekiguchi
• 通讯作者: A. Sekiguchi

ラジカル化学のフロンティア: 安定なケイ素、ゲルマニウム、スズラジカルの創製と機能

自由基化学前沿：稳定硅、锗和锡自由基的产生和功能

• 发表时间: 2013
• 作者: 松岡亮太;斎藤雅一;M. Akutsu;丸山 仁・中野 秀之・中本 真晃・関口章;斎藤雅一;関口章
• 通讯作者: 関口章